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[导读]NVIDIA的Turing图灵显卡使用的是台积电12nm FFN工艺,不过爆料称NVIDIA原计划改用三星的10nm工艺的,最后还是用了台积电12nm工艺。

从GTX 10系列显卡发布到现在已经有两年多了,这次可以说是近年来显卡升级换代间隔最长的一代了,矿卡市场由盛转衰带来的库存是新卡发布较晚的一个重要原因,不过它也不是唯一原因,可能还会牵涉到显卡工艺升级的问题。NVIDIA的Turing图灵显卡使用的是台积电12nm FFN工艺,不过爆料称NVIDIA原计划改用三星的10nm工艺的,最后还是用了台积电12nm工艺。

 

 

日本PC Watch网站上周发布了NVIDIA的图灵GPU架构解析,其中提到了NVIDIA在制造工艺上的一个选择就是三星的10nm工艺,不过最终还是选择了台积电的12nm FFN工艺,跟Volta显卡一样的工艺,通过这种成熟的工艺,即便核心面积有所增加,产能似乎也是能保障的。

原文没有提到具体的情况,不过NVIDIA考虑更换工艺也是有可能的,除了三星在代工上提供的价格优惠之外,三星10nm工艺技术上也比台积电的12nm工艺更先进,后者其实是基于16nm工艺改进的,而NVIDIA的12nm FFN工艺是台积电12nm工艺的定制版,比普通的12nm FFC工艺性能要好。

 

 

虽然三星在GTX 10系列中的GP107核心上为NVIDIA提供代工,不过高性能核心一直是台积电代工的。如果NVIDIA考虑使用高性能的三星10nm LPP工艺代工图灵显卡,那么预计核心面积会比现在更少一些,毕竟现在的TU102、TU104、TU106核心面积分别是754、545及445mm2,最小的TU106核心也跟目前的GP102核心面积有得一拼,制造成本及难度还是很高的。

不过这些都是后话了,不管PCWatch所说的考虑使用三星10nm代工是不是真实存在的,NVIDIA现在还是使用了台积电的12nm FFN工艺。

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