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[导读]固态技术为使用射频能量的系统带来了增强的控制功能和可靠性,人们对此早有认识,但射频功率晶体管缺少开发工具来帮助工程师充分利用这些优势。恩智浦半导近日宣布推出RFE系列射频能量系统解决方案。

级别产品组合为射频能量晶体管运用铺平道路

2018年6月26日(IMPI年度微波功率研讨会2018)– 固态技术为使用射频能量的系统带来了增强的控制功能和可靠性,人们对此早有认识,但射频功率晶体管缺少开发工具来帮助工程师充分利用这些优势。全球最大的射频功率晶体管供应商恩智浦半导体近日宣布推出RFE系列射频能量系统解决方案。这些2.45 GHz、250 W平台解决方案能够帮助工程师通过全新的方式来创建原型和开发创新的高性能系统。

RFE系列包括多级别产品组合,适用于成功构建射频功率设计的每个步骤:

·RFEL实验室盒子– 即插即用型射频发生器,提供反射功率测量,采用基于PC的直观图形用户界面(GUI),具有自动调节功能。这种盒子实验室是全集成式,只需一台PC即可运行。它用于评估和进行初始原型设计,且无需射频专业知识或设备。

·RFEM模块 – 将一系列射频功率晶体管与恩智浦Kinetis微控制器组合在一起,支持广泛的软件应用程序编程接口(API),可实现频率扫描和闭环模式等多种操作。该模块用于快速原型设计,无需掌握大量射频专业知识。

·RFEP Pallet – 三级功率放大器参考设计,协助射频工程师利用恩智浦的射频匹配专业知识加快设计周期。

·射频晶体管– 恩智浦提供高性能射频元器件以及相关评估板,供射频功率专家使用。

借助实验室盒子,系统开发人员能够快速和经济高效地创建原型。概念验证完成后,工程师可充分利用模块和Pallet,加快生产系统设计。此外,恩智浦还在构建由技术精湛、经验丰富的设计公司和ODM合作伙伴组成的生态系统,以便更快地设计定制量产型解决方案。

恩智浦的多市场射频功率高级总监兼总经理Pierre Piel表示:“我们的RFE系列产品提供了各种工具,旨在加快射频系统的开发。就像俄罗斯套娃那样,我们将恩智浦的射频晶体管与多个级别的硬件和软件组合在一起,最大限度简化射频能量系统开发。”

释放创新力

晶体管将使用真空管的射频功率系统提升到更高水平。

主要特性:

·支持在整个动态范围内实现精确功率控制,可进行频移,帮助我们精确使用射频能量。

·连续数年提供稳定的功率,随着时间推移性能下降很少,从而降低了总拥有成本。

·通常在30 V或50 V的电压下工作,以增强安全性。

射频能量联盟的执行董事Klaus Werner博士表示:“从消费者烹饪到医疗消融,再到工业加热等各市场,精确度、灵活性、可重复性均至关重要,固态射频能量技术必将带来变革。恩智浦的新射频能量系列等解决方案将为工程师提供必要的手段,帮助将这种创新技术应用于主流市场。”

产品定价和上市时间

恩智浦首次推出2.45 GHz、250 W的RFE系列产品,将于2018年9月全面上市。

·RFEL24-500是一款2x250 W盒子实验室,定价为10,000美元。

·RFEM24-250是一款250 W模块,定价为2,500美元。RFEL24-500盒子实验室包括两个RFEM24-250模块。

·RFEP24-300是一款300 W的Pallet,定价为1,500美元。

注:这些价格是通过恩智浦认证供应商提供的建议转售价。

所有三种解决方案均围绕恩智浦的MRF24300N旗舰级300 W LDMOS晶体管构建,工作频率为2400-2500 MHz,能量转换效率为60%。MRF24300N射频晶体管已量产出货,参加恩智浦的“产品持续供应计划”,确保供应至2026年。

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