光刻技术的基本原理是什么？主要有哪些应用？
光刻技术是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂（又名光刻胶）将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。-
光刻技术的基本原理是什么？主要有哪些应用？
光刻技术是一种常用于半导体制造过程中的关键技术。它是通过使用光刻机将设计好的芯片图形投射到半导体材料表面，并进行一系列加工步骤，最终形成微米级别的芯片结构。本文将详细介绍光刻技术的基本原理以及主...
2023-08-08 13:20:02 -
ASML 和 IMEC 将合作研发 high-NA EUV 光刻技术
...光刻技术，需要进行大量的投资，并保持与欧洲相关的先进节点过程研发能力。据悉，该谅解备忘录启动了ASML和IMEC在高级NAEUV上的下一阶段密集合作，第一阶段的工艺研究正在使...
2023-07-04 10:50:47 -
英伟达发布cuLitho改变游戏规则，我国计算光刻技术是否能“打”？
...光刻技术软件库,可将计算光刻加速40倍以上,为推进2nm甚至更先进工艺奠定基础。这项让计算光刻变得更“聪明”的cuLitho技术来势汹汹,号称是英伟达与台积电、阿斯麦、新思科...
2023-04-06 17:04:31 -
两大光刻技术
...光刻技术作为当前主流的光刻技术，主要包括：特征尺寸为0.1μm的248 nm KrF准分子激光技术;特征尺寸为90 nm的193 nm ArF准分子激光技术;特征尺寸为65 ...
2021-12-09 15:27:16 -
准分子光刻技术与极紫外光刻技术
...光刻技术准分子光刻技术作为当前主流的光刻技术，主要包括：特征尺寸为0.1μm的248 nm KrF准分子激光技术;特征尺寸为90 nm的193 nm ArF准分子激光技术;特...
2021-12-01 13:04:14 -
光刻技术的工艺流程和曝光系统
...光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级(从毫米级到亚微米级)，已从常规光学技术发展到应用电子束、X射线、微离子束、激光等新技术;使用波长已从4000埃扩展到0.1埃数...
2021-12-01 12:55:19 -
中科院辟谣：5nm光刻技术被误读，国产水平在180nm
...光刻技术制备5纳米间隙电极和阵列》的研究论文引起了广泛的关注。当时，华为正被美国打压，中国芯片产业成为了国人的心头忧虑。因此，中科院此新闻一出，遭部分媒体夸张、误解之后，立刻...
2020-12-18 09:10:25 -
5nm光刻技术突破ASML垄断？中科院研发者回应，真相是这样的！
...光刻技术是两回事。按照刘前的说法，如果超高精度激光光刻加工技术能够用于高精度掩模版的制造，则有望提高我国掩模版的制造水平，对现有光刻机的芯片的线宽缩小也是十分有益的。这一技术...
2020-12-07 15:04:15 -
深度：光刻技术的历史与现状
...光刻技术的发展,光刻技术是迄今所能达到的最高精度的加工技术。集成电路产业是现代信息社会的基石。集成电路的发明使电子产品成本大幅度降低,尺寸奇迹般减小。以计算机为例，1946年...
2020-12-01 09:36:01 -
光刻机巨头ASML 亮相进博会，全方位展示光刻技术
...光刻技术的领导者，ASML(阿斯麦)以“光刻未来，携手同行”为主题亮相第三届进博会技术装备展区。在此次展会上，ASML除了展示了其整体光刻解决方案，包括先进控制能力的光刻机台...
2020-11-06 11:11:53 -
EV Group通过LITHOSCALE技术实现无掩膜光刻技术在批量生产中的运用
...光刻技术优势）光刻技术的新要求3D集成和异构集成，对于实现半导体器件性能的持续改进发挥着日益重要的作用。这种趋势导致封装复杂性和封装选项的数量都不断增加，推动了用户对设计灵活...
2020-09-23 10:06:09 -
中科院研发新型激光光刻技术：不用EUV 直击5nm
...光刻技术，不需要使用EUV技术就可以制备出5nm特征线宽。半导体光刻最重要的指标是光刻分辨率，它跟波长及数值孔径NA有关，波长越短、NA越大，光刻精度就越高，EUV光刻机就是...
2020-07-29 08:50:01 -
太空也能建晶圆厂？美国成功试验宇宙EUV光刻技术
...光刻技术奠定了基础，该技术使用太阳辐射的能量作为光源。国际空间站最初于2000年投入使用，它是一个模块化的太空实验室，是美国、俄罗斯、日本、欧洲和加拿大的航空航天机构之间的合...
2020-06-24 11:28:01 -
三星5nm芯片生产线开建：基于EUV极紫外光刻技术
...光刻技术，芯片代工商就能顺利生产5nm及更先进工艺的芯片，三星基于极紫外光刻技术的7nm工艺，在去年已开始量产，三星在去年也首次宣布他们顺利研发出了基于极紫外光刻技术的5nm...
2020-05-22 11:04:27 -
EVG与DELO合作为晶圆级光学元件和纳米压印光刻技术开发材料并提升工艺能力
...光刻技术开发材料并提升工艺能力在EVG的NILPhotonics®解决方案支援中心，双方合作研发用于制造光学传感器的新材料，以及适用于大众化市场的晶圆级光学元件。ST...
2019-11-27 10:24:19 -
中科院院士：中国光刻技术与国外差距15-20年
...光刻技术，这是半导体芯片生产中的核心工艺。在2019中国集成电路设计大会上，中科院微电子所的院士刘明也谈到了国内集成电路方面的一些技术基础，尤其是光刻方面，指出了在光刻技术方...
2019-10-03 16:02:01 -
助力高级光刻技术：存储和运输EUV掩模面临的挑战
...光刻技术的运用逐渐扩展到大规模生产环境中。对于7纳米及更小的高级节点，EUV光刻技术是一种能够简化图案形成工艺的支持技术。要在如此精细的尺寸下进行可靠制模，超净的掩模必不可少...
2019-07-03 15:46:23 -
新光刻技术工艺证实能令纳米芯片的发展产生重大影响
...光刻技术，要优于在二维半导体(例如二硫化钼(MoS2))上制造金属点击的方法，成本更低，有望成为当今电子束光刻的替代品。该团队将这种新制造方法称为热扫描探针光刻(t-SPL)...
2019-02-11 10:04:10 -
EV集团推出全新掩模对准光刻技术突破速度和精度极限
...光刻技术要求高级半导体封装技术正在不断发展演变，包括增加器件功能和降低每单元功能成本，以便支持全新的器件类型。为促进光刻技术的发展，需满足对先进封装市场的独特要求：&midd...
2017-03-10 19:14:11 -
受EUV光刻技术推动 芯片突破摩尔定律
...光刻技术)，可以帮助英特尔继续做出更小、更快、更高效的芯片。不幸的是，这说起来容易做起来难。荷兰微影设备大厂ASML在2009年就公布了EUV光刻技术，但一直未有显著的进展，...
2014-01-11 04:18:14 -
英特尔CEO：EUV光刻技术或助力芯片突破摩尔定律
...光刻技术)，可以帮助英特尔继续做出更小、更快、更高效的芯片。不幸的是，这说起来容易做起来难。荷兰微影设备大厂ASML在2009年就公布了EUV光刻技术，但一直未有显著的进展，...
2013-11-07 15:16:14 -
EUV光刻技术或助力芯片突破摩尔定律
...光刻技术)，可以帮助英特尔继续做出更小、更快、更高效的芯片。不幸的是，这说起来容易做起来难。荷兰微影设备大厂ASML在2009年就公布了EUV光刻技术，但一直未有显著的进展，...
2013-11-07 10:26:34 -
EUV光刻技术或助力芯片突破摩尔定律
...光刻技术)，可以帮助英特尔继续做出更小、更快、更高效的芯片。不幸的是，这说起来容易做起来难。荷兰微影设备大厂ASML在2009年就公布了EUV光刻技术，但一直未有显著的进展，...
2013-11-06 09:22:34 -
英特尔CEO：EUV光刻技术或助力芯片突破摩尔定律
...光刻技术)，可以帮助英特尔继续做出更小、更快、更高效的芯片。不幸的是，这说起来容易做起来难。荷兰微影设备大厂ASML在2009年就公布了EUV光刻技术，但一直未有显著的进展，...
2013-11-04 11:31:37 -
英特尔CEO：EUV光刻技术或助力芯片突破摩尔定律
...光刻技术)，可以帮助英特尔继续做出更小、更快、更高效的芯片。不幸的是，这说起来容易做起来难。荷兰微影设备大厂ASML在2009年就公布了EUV光刻技术，但一直未有显著的进展，...
2013-11-01 14:16:52 -
英特尔公司投资41亿美元促进EUV光刻技术的研发
...光刻技术的研发，新技术有望让晶体管的大小缩减为原来的1/4。一块芯片能容纳的晶体管数量每隔几年就可以翻番，但这一趋势目前似乎已到穷途末路。解决方案之一是借用EUV光刻技术将更...
2012-07-31 14:39:14 -
下一代光刻技术延迟 NAND成长或趋缓
...光刻技术的延迟，将导致NAND闪存的成长趋缓。市场原先对闪存的展望都相当乐观，但Cedar表示，由于超紫外光(EUV)光刻技术的延迟，闪存的成长可能需要再评估。现有的浸入式光...
2011-08-17 10:47:34 -
随笔：EUV光刻技术与协和式超音速客机的奇妙类比
...光刻技术很可能会变成光刻界的协和客机。从技术角度看，我并不认为EUV技术的实现是不可能的。但是从经济性角度看，这种技术很有可能面临与协和式客机一样的命运。在我看来，也许EUV...
2011-07-27 06:13:00 -
MIT实现9纳米工艺电子束光刻技术
...光刻技术的讨论范畴之中。多年来，超紫外光光刻(EUV)一直被视为是接替光学光刻的领先技术。将EUV导入量产的时程已经往后推移了许多次，目前预计领先的IC制造商将在2012和2...
2011-07-12 05:09:00 -
光源问题仍是EUV光刻技术中的难题
...光刻技术专家ObertWood在最近召开的高级半导体制造技术会议ASMC2011上表示，尽管业界在改善EUV光刻机用光源技术方面取得了一定成效，但光源问题仍是EUV光刻技术成...
2011-06-23 07:36:00 -
光刻技术的基本原理是什么？主要有哪些应用？
...光刻技术是一种常用于半导体制造过程中的关键技术。它是通过使用光刻机将设计好的芯片图形投射到半导体材料表面，并进行一系列加工步骤，最终形成微米级别的芯片结构。本文将详细介绍光刻...
2023-08-08 13:20:02