据业内消息,本周西安一高校半导体研究团队宣布在半导体材料研究上取得突破!该研究成功在 8 英寸硅片中制备出高质量的氧化镓外延片,标志着在超宽禁带半导体研究上取得重要进展。
SiC和GaN并不是终点,最近,氧化镓(Ga2O3)再一次走入了人们的视野,凭借其比SiC和GaN更宽的禁带,该种化合物半导体在更高功率的应用方面具有独特优势。因此,近几年关于氧化镓的研究又热了起来。
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