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过渡金属二硫化物成为未来晶体管开发的重要材料
电子工程师不断尝试开发更薄、更高效和性能更好的晶体管，这是大多数现代电子产品的核心半导体器件。为此，他们一直在评估各种材料的潜力。过渡金属二硫化物 (TMD) 是一种基于过渡金属和硫属元素的化合物，具有非常有吸引力的电子和机械性能，使其成为开发未来几代晶体管的有前途的候选者。最值得注意的是，它们具有原子级薄结构，没有悬空键和类似于硅的带隙。
电子工程师不断尝试开发更薄、更高效和性能更好的晶体管，这是大多数现代电子产品的核心半导体器件。为此，他们一直在评估各种材料的潜力。过渡金属二硫化物 (TMD) 是一种基于过渡金属和硫属元素的化合物，具有非常有吸引力的电子和机械性能，使其成为开发未来几代晶体管的有前途的候选者。最值得注意的是，它们具有原子级薄结构，没有悬空键和类似于硅的带隙。
