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[导读] 据今日公布的一项调查显示,芯片行业的高管们越来越乐观地认为,该行业将采用极端的紫外线光刻技术和多波束掩模。新系统将有助于推动先进设备的发展,而这一时代正变得越来越复杂和昂贵。

 据今日公布的一项调查显示,芯片行业的高管们越来越乐观地认为,该行业将采用极端的紫外线光刻技术和多波束掩模。新系统将有助于推动先进设备的发展,而这一时代正变得越来越复杂和昂贵。

75个半导体照明机构的调查中有75%表示,他们预计EUV将在2021年之前在大批量生产中被采用。只有1%的人表示EUV将不会被接受,低于去年的6%,而这个比例在2014年则高达35%。

“在我看来,毫无疑问, EUV将在未来几年内开始采用7nm+进程。”Aki Fujimura说,他是一名行业资深人士,也是eBeam协会的发言人,该组织在夏季进行了这项调查。

英特尔、三星和积电对EUV开发商ASML进行了数十亿美元的投资,后者转而收购了光源制造商Cymer,推动复杂且昂贵的技术向前发展。Fujimura说:“在过去的几年里, 7和5纳米难以实现的问题被过多谈论了,每一个人都认为这或许是整个行业的麻烦。” Fujimura是D2S的首席执行官,D2S是使用gpu来加速面具缺陷修复的系统制造商。

这种转变并不容易。芯片制造商预计将在现有的浸入式步进器中启动7nm进程,然后将一些步骤迁移到EUV设备上,以减少对多模式的需求。

EUV是如此新颖,需要在机器和生态系统上投入如此多的资金来支持它,以至于你不能一步到位。Fujimura说:“你必须要比这更循序渐进地引入它。而不是一开始就让EUV做全部的事情。” Fujimura在1979年开始了自己的职业生涯,在他的职业生涯中,他有三次创业经历,包括两次Cadence Design系统设计。

在过去的12个月里,掩膜制造商创造了1041个EUV掩膜,高于一年前的382个。另一项针对10位顶级设备制造商的调查显示,EUV掩膜的产量仅为64.3%。

Fujimura说:“我把这么低的产量归因于创业公司的收益。有人可能会说,这一数字高达64.3%,令人吃惊。”

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