当前位置:首页 > 半导体 > 半导体
[导读]为了招聘人才,ASML公司制作了全世界最小的招聘广告,并获得了吉尼斯世界记录。这个广告长33.27微米,宽7.76微米,面积为258平方微米,比一根头发还小。上面刻有ASML宣传语“To truly go small, you have to think big”(想要真的变小,那么你必须有宏大的想法)。

浏览科技公司的招聘广告,多半都是科技范十足,中规中矩。不过,最近半导体设备制造商ASML做了个招聘广告,竟然获得了吉尼斯世界记录。

近日,为了招聘人才,ASML公司制作了全世界最小的招聘广告,并获得了吉尼斯世界记录。这个广告长33.27微米,宽7.76微米,面积为258平方微米,比一根头发还小。上面刻有ASML宣传语“To truly go small, you have to think big”(想要真的变小,那么你必须有宏大的想法)。

 

ASML是全球知名的半导体设备制造商之一,总部位于荷兰,向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备——光刻机。

这份广告就是使用了TWINSCAN NXT1970Ci光刻机制作的,ASML在德国的亚琛工业大学(RWTH Aachen)举行大学生招聘会时首次展示这条广告,学生们只能使用电子显微镜查看它。

ASML表示,他们通过最小的广告,来欢迎学生们进入纳米光刻技术的世界。他们预计今年将创造3500个就业岗位,并且研发园区距离亚琛大学仅1个小时车程。

这么有创意又掌握尖端科技的公司,相信即使不用广告,学霸们也会趋之若鹜吧!

本站声明: 本文章由作者或相关机构授权发布,目的在于传递更多信息,并不代表本站赞同其观点,本站亦不保证或承诺内容真实性等。需要转载请联系该专栏作者,如若文章内容侵犯您的权益,请及时联系本站删除。
换一批
延伸阅读

业内消息,近日美国存储芯片大厂美光计划首先采用日本佳能的纳米压印(NIL)光刻机,旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储器的成本。

关键字: 佳能 纳米压印 光刻机 美光

2月17日消息,ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机,将用于2nm工艺以下芯片的制造,台积电、三星未来也会陆续接收,可直达1nm工艺左右。

关键字: ASML 7nm IMEC 光刻机

近日,美国智库战略与国际研究中心(CSIS)发文指出:硅光子学支撑并推动了光互连和光计算的进步,这项新兴技术可能会改变中美在半导体和人工智能方面的竞争。

关键字: 光刻机 硅光子

12月10日消息,尼康宣布,将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式光刻机“NSR-S636E”,生产效率、套刻精度都会有进一步提升。

关键字: 尼康 光刻机

日前韩国今日电子新闻报道称三星计划斥巨资进口大量的半导体设备,其中包括更多的 ASML 极紫外(EUV)光刻设备。尽管因为合同中的保密条款未能披露具体细节,但证券市场消息称,该协议将使 ASML 在五年内提供总共 50...

关键字: 三星 ASML 光刻机 EUV

上个月佳能(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备,号称通过纳米压印光刻(NIL)技术实现了目前最先进的半导体工艺。然而,近日佳能首席执行官三井藤夫在采访中表示,该设备无法出口到中...

关键字: 佳能 纳米压印 光刻机 EUV

10月25日,第七届国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions,IWAPS)在浙江丽水盛大开幕。

关键字: 东方晶源 光刻机 半导体设备

ASML预计2023年第四季度的净销售额在67亿至71亿欧元之间,毛利率在50%至51%之间。

关键字: ASML 阿斯麦 光刻机

最新消息,近日佳能(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备,号称通过纳米压印光刻(NIL)技术实现了目前最先进的半导体工艺。

关键字: EUV 佳能 光刻机

业内消息,近日多家外媒报道俄罗斯定下多个宏大科技领域的目标,其中包括在 2030 年之前建造 10 台的超级计算机,此外还包括在圣彼得堡理工大学的光刻综合体以更低的成本研发出比 ASML 更高效的光刻机。

关键字: 俄罗斯 超级计算机 光刻机
关闭
关闭