在硅衬底上成功生长了厚度达到6 μm左右的InGaN基激光器结构,位错密度小于6×108 cm-2,成功实现了世界上首个室温连续电注入条件下激射的硅衬底InGaN基激光器,激射波长为413 nm,阈值电流密度为4.7 kA/cm2。
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