Intel虽然一再强调自己的xxnm工艺才是最精确的,比如同样标称10nm,自己要比三星、台积电的领先整整一代,但是没办法,人家的脚步要快得多。今天,三星电子又宣布了新的11nm FinFET制造工艺“11LPP”(Low Power Plus),并确认未来7nm工艺将上EUV极紫外光刻。
PI新品来袭!InnoMux™-2——高精度多路输出电源解决方案
一天学会使用PADS进行产品PCB设计-高效实用
linux应用编程和网络编程(更新中)\3.1.linux中的文件IO
印刷电路板设计进阶
linux驱动开发之驱动应该怎么学
内容不相关 内容错误 其它