台积电今天宣布，N7+ 7nm+工艺已经大批量供应给客户，这是该公司乃至全产业首个商用EUV极紫外光刻技术的工艺。 EUV光刻采用波长为10-14nm的极紫外光作为光源，可使曝光波长直接降到13.5n
ST超低功耗MCU来袭，挑战趣味游戏，见证STM32U3的电池增寿能力
Allegro 高速PCB设计软件使用技巧
印刷电路板设计进阶
小i单片机压箱底教程
吴恩达coursera机器学习(中文字幕)
内容不相关 内容错误 其它
