随着半导体行业技术的不断进步,ASML公司即将在2030年推出Hyper-NA EUV设备,这一设备将能够支持1纳米以下的先进工艺技术。这一消息由韩国媒体Chosun Biz报道,标志着ASML在EUV光刻技术领域的又一次重大突破。
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