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埋入式电阻容技术：薄膜材料Dk稳定性与±5%公差控制方案
在5G通信、AI芯片等高速电路中，埋入式电阻与电容（埋阻埋容）技术通过将无源元件集成于PCB内部层间，实现信号完整性提升与空间利用率优化。某5G基站PCB因埋容材料介电常数（Dk）波动导致电容值偏差12%，引发信号反射损耗超标。本文提出基于NiCr合金薄膜电阻与高Dk聚合物电容的协同优化方案，通过材料配方改进与工艺控制，实现Dk稳定性±2%以内、电阻/电容公差±5%的突破。
在5G通信、AI芯片等高速电路中，埋入式电阻与电容（埋阻埋容）技术通过将无源元件集成于PCB内部层间，实现信号完整性提升与空间利用率优化。某5G基站PCB因埋容材料介电常数（Dk）波动导致电容值偏差12%，引发信号反射损耗超标。本文提出基于NiCr合金薄膜电阻与高Dk聚合物电容的协同优化方案，通过材料配方改进与工艺控制，实现Dk稳定性±2%以内、电阻/电容公差±5%的突破。
