等离子注入

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40年ALD积淀助力超越摩尔，思锐智能完成第一阶段发展布局

沉积、光刻、刻蚀以及等离子注入是半导体和超越摩尔领域制造工艺的4大关键技术。在新晶圆产线的投资建设中，约80%的投资用于购买设备，薄膜沉积设备更是占据其中约25%的比重。

厂商动态
2021-06-03

ALD 思锐智等离子注入