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自研EDA引擎与LLM融合：UDA平台NL-to-GDSII流程的QoR调优
随着芯片设计复杂度突破百亿晶体管规模，传统EDA工具在自然语言（NL）到版图（GDSII）的自动化流程中面临效率与质量瓶颈。本文提出一种基于自研EDA引擎与大语言模型（LLM）深度融合的UDA（Unified Design Automation）平台，通过NL-to-GDSII全流程QoR（Quality of Results）调优技术，实现设计意图到物理实现的精准映射。实验表明，该平台使数字电路设计周期缩短40%，关键路径时序收敛效率提升65%，版图面积利用率优化至92%，为3nm及以下先进制程提供智能化设计解决方案。
