今年，频频爆出摩尔定律将不再是制造工艺界的神话，虽说如此，但新制造工艺的发展仍然不可忽视。而在14nm向10nm、7nm发展的过程中，解决漏电问题就成为了关键。为了解决该问题，Intel在其制造工艺中融合了高介电薄膜
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