全球领先的半导体制造设备及服务供应商泛林集团(纳斯达克股票代码：LRCX)今天宣布推出一种用于沉积低氟填充钨薄膜的新型原子层沉积 (ALD) 工艺，标志着其业界领先的 ALTUS® 产品系列又添新成员。
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