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Intel/台积电/ASML齐捧EUV光刻：捍卫摩尔定律
日前，中国国际半导体技术大会（CSTIC）在上海开幕，为期19天，本次会议重点是探讨先进制造和封装。 其中，光刻机一哥ASML（阿斯麦）的研发副总裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一
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共话“新计算时代”的机遇与挑战，应用材料公司亮相SEMICON China 2020
2020年6月22日，上海——SEMICON China 2020将于6月27—29日在上海新国际博览中心举办。
小轩窗
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