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ASML 和 IMEC 将合作研发 high-NA EUV 光刻技术
据业内消息，近日荷兰半导体设备巨头 ASML 和比利时微电子研究中心(IMEC)宣布双方将在开发最先进高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻试验线的下一阶段加强合作，为使用半导体技术的行业提供原型设计平台和未开发的未来机遇。
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ASML：2022年EUV出货超50台，下一代2年后面世
据业内信息，近日全球光刻机巨头ASML在今年的半导体EUV生态系统全球大会上表示，EUV设备出货量这几年来不断上升，去年大约为42台，而今年预测将超过50台。2024年年底预计推出下一代High-NA EUV设备。
