中国成半导体的最大消费国,占全球芯片需求量的45%
芯片设计
光刻技术概述
准分子光刻技术与极紫外光刻技术
向前进!2025年前上海要突破光刻设备 芯片设计进入3nm工艺内
突发!美国出口限制清单新增6项新兴技术,中国出台出口法反制!
全球首台!苏大维格大型紫外 3D 直写光刻设备 iGrapher3000 投入运行
国产大型紫外3D直写光刻设备下线
国产大型紫外3D直写光刻设备下线,可用于大基板3D光刻
中科院研发新型激光光刻技术:不用EUV 直击5nm
FPGA实现的NFC读卡器
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线缆测试仪
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开发一款基于Modbus的参数设置小程序
交流(220V/380V)电场感应电路设计
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STM32双固件(主副备份)架构设计
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得捷芯闻解码研习站第二期:传感器赋予设备感知万物之力
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