国产大型紫外3D直写光刻设备下线，可用于大基板3D光刻

据苏大维格官方透露，大型紫外3D直写光刻设备iGrapher3000，在苏大维格科技集团下线，并投入工业运行。iGrapher3000主要用于大基板上的微纳结构形貌的3D光刻，是新颖材料、先进光电子器件的设计、研发和制造的全新平台。

iGrapher3000此次安装在维业达科技有限公司黄光车间，首个工业应用项目是大尺寸透明导电膜的深槽结构微电路模具，并将用于大面积平板成像、柔性导电器件和全息显示与3D显示研发和产业化应用。

苏大维格主要从事微纳关键技术、高端智能制造设备和功能材料的创新应用，是首批认证的国家高新技术企业。其光刻仪器事业部研制了多种用于MEMS芯片的光刻设备MiScan200(8”~12”)、微纳光学的MicroLab(4”~8”)和超表面、裸眼3D显示、光电子器件研究的纳米光刻设备NanoCrystal(8”~32”)。

2020年1月10日，在国家科技奖励大会上，苏大维格承担的“面向柔性光电子的微纳制造关键技术与应用”成果，获国家科技进步奖二等奖。