近年来,随着国家的大力支持以及国内市场需求的快速增长,国产半导体产业发展迅猛,而在关键的国产半导体设备领域也有了不小的进步。 比如在硅刻蚀机领域,北方华创实现了14nm设备的突破,同时也在去年实现了适
据多家外媒报道,在IEEE国际电子设备会议(IEDM)上,一张英特尔即将推出的制造工艺的扩展路线图被透露,其中显示,英特尔未来将推出7nm、5nm、3nm、2nm和1.4nm工艺。而这张图是由ASML发言人在会议上展示的,ASML表示,此图为英特尔9月在一次光刻会议上展示的。然而英特尔方面则澄清,这张图被ASML修改过了。
今天闹得沸沸扬扬的ASML光刻机对中国厂商断供一事,ASML公司官方也发表了声明,否认了延迟出货、断供等说法,称媒体报道有误,ASML对全球客户是一视同仁的。 这次外媒报道来源于日本的日经新闻独家新闻
11月7日消息,针对荷兰ASML公司延迟出货EUV光刻机的报道,中芯国际刚刚也作出了回应,称“极紫外光(EUV)还在纸面工作阶段,未进行相关活动。公司先进工艺研发进展顺利。目前,研发与生产的连结一切正
EUV还在纸面工作阶段,未进行相关活动。公司先进工艺研发进展顺利。目前,研发与生产的连结一切正常。客户与设备导入正常运作。
半导体芯片生产可以说是制造业的皇冠,而光刻机就是皇冠上的明珠,EUV光刻机则是明珠之光,其设计之复杂远超一般工业设备。 目前EUV光刻机只有荷兰ASML公司能够生产,Q3季度他们交付了7台EUV光刻机
台积电今天宣布将全年的资本开支从110亿美元提升到140-150亿美元,增长了40%左右,希望进一步提升7nm及5nm产能。 在这个领域,唯一能跟台积电竞争的就是三星了,但是三星的问题在于进展较慢,现
北京清芯华创投资公司投委会主席陈大同博士日前在报告中谈到了中国半导体产业与世界一流水平的差距,其中封装方面差距最小,最快5年追上,半导体制造上则需要10-15年,这部分也是国产最弱的一部分了。 在半导
在半导体制造过程中,最重要的一个过程就是光刻工艺,需要用到光刻机,7nm及以下节点工艺则需要EUV光刻机,目前只有荷兰ASML公司能生产,每台售价超过1亿欧元,可以说是半导体行业的明珠了,是门槛非常高
半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻,光刻机也因此成为最重要的半导体制造设备。在7nm制程的较量中,台积电之所以能够领先,一个很重要的原因就是EUV技术,在半导体制造的工艺中,这部分的成本就能
在2019年,台积电和三星都准备量产7纳米的EUV工艺了,并且明年也会是5纳米工艺的一个重要节点。要知道,在半导体制造的工艺中,最重要而且最复杂的就是光刻步骤,往往光这部分的成本就能占到33%左右,所
全球半导体设备厂ASML于17日公布2019年第2季财报。资料显示,ASML第一季缴出成长成绩单,整体表现优于市场预期。
近日,阿斯麦在官网披露的数据显示,其在二季度的营收为25.68亿欧元,较今年一季度的22.29亿欧元增加3.39亿欧元,环比增长率为15.2%。
6月24日晚间,台积电发布公告称,斥资152.79亿新台币(约合人民币34亿元)向ASML台湾分公司订购了一批机器设备。
为什么一台最新的光刻机可以卖到超过一亿美金?
晶圆制造产业进入7纳米制程之后,目前全世界仅剩台积电与三星,再加上号称自家10纳米制程优于竞争对手7纳米制程的英特尔等,有继续开发能力之外,其他竞争者因须耗费大量金钱与人力物力的情况下,都已宣布放弃。
在先进制程纳米节点持续微缩下,光刻机是重要关键设备。12寸晶圆主要光刻机为ArF immersion机台,可覆盖45nm一路往下到7nm节点的使用范围,其雷射光波长最小微缩到193nm;针对7nm节点以下的制程,EUV(Extreme Ultra-Violet)极紫外光使用光源波长为13.5nm,确保先进制程持续发展的可能性。
消息,近日有外媒报道称中国员工窃取荷兰公司阿斯麦(ASML Holding N.V)商业机密并泄露给中国政府,ASML就是此前中芯国际购买1.2亿美元EUV光刻机的卖方,几乎是中芯国际2017年的全部
ASML第一季度净利润为3.55亿欧元(约4.013亿美元),低于去年同期的5.81亿欧元,同比下降约39%;销售额从去年同期的22.9亿欧元降至22.3亿欧元,毛利率为41.6%。
ASML发公告称这起窃密案还有其他国家人员参与,他们反对贴国家标签的行为,并对中欧之间日前达成的保护知识产权协议感到鼓舞。