随着三星宣布7nm EUV工艺的量产,2018年EUV光刻工艺终于商业化了,这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多技术挑战,目前的光源功率以及晶圆产能输出还没有达
面积能大幅缩小的原因就在于使用了新的晶体管结构,Unisantis与IMEC使用的是前者开发的垂直型环绕栅极(Surrounding Gate Transistor,简称SGT)结构,最小栅极距只有50nm。研究表明,与水平型GAA晶体管相比,垂直型SGT单元GAA晶体管面积能够缩小20-30%,同时在工作电压、漏电流及稳定性上表现更佳。
全球领先的纳米电子与数字技术研发创新中心 imec 与楷登电子(美国 Cadence 公司)今日联合宣布,得益于双方的长期深入合作,业界首款 3nm 测试芯片成功流片。
欧洲微电子研究中心(IMEC)的研究人员最近成功研发了一款可以作曲的芯片,这款仿神经芯片虽然还处于原型产品阶段,但已经可以通过分析歌曲中的模式学会了谱曲的规则。听过某