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Toppan与IBM光罩技术合作将延伸至14奈米制程
时间：2011-01-19 05:34:00
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[导读]日本光罩设备业者 Toppan Printing宣布已经与IBM针对先进的光罩(photomask)技术，延伸双方的合作研发协议至 14奈米逻辑制程；两家公司将在该制程节点延伸使用193奈米浸润式微影(immersion lithography)技术。据了解，
日本光罩设备业者 Toppan Printing宣布已经与IBM针对先进的光罩(photomask)技术，延伸双方的合作研发协议至 14奈米逻辑制程；两家公司将在该制程节点延伸使用193奈米浸润式微影(immersion lithography)技术。
据了解，IBM与 Toppan 的合作研发工作，将分别在IBM位于美国、以及 Toppan 的日本光罩厂进行，时间由2011年1月至2012年。Toppan表示，支援包括超紫外光微影(EUV)在内的新一代微影解决方案，是该公司的使命；因为IBM在主流的ArF浸润式微影技术方面有成功的开发经验，该技术也有潜力延伸至14奈米制程，双方决定要针对此技术进行合作研发。
Toppon补充，14奈米逻辑制程可能会是只采用光学微影技术进行生产的最后一个节点，也可能会是转进EUV的开端；在193奈米微影技术达到极限之后，未来的制程节点预期将会采用EUV微影。
IBM与Toppan的合作始于2005年的45奈米光罩制程研发，并一直陆续延伸到32奈米、28奈米、22奈米与20奈米节点；双方所共同开发的光罩技术，主要是支援IBM与其晶圆厂伙伴在美国所进行的先进晶圆制程研发。
编译： Judith Cheng
(参考原文： IBM,Toppan extend litho for 14-nm，by Mark LaPedus)
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