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[导读]在“SEMICON Japan 2010”(2010年12月1~3日,幕张MESSE会展中心)上,微细化是最重要的主题之一。因此,支持新一代微细化技术的技术及生产装置纷纷亮相,比如,支持DRAM中的3X~2Xnm以及NAND闪存和逻辑IC中的2X~1

在“SEMICON Japan 2010”(2010年12月1~3日,幕张MESSE会展中心)上,微细化是最重要的主题之一。因此,支持新一代微细化技术的技术及生产装置纷纷亮相,比如,支持DRAM中的3X~2Xnm以及NAND闪存和逻辑IC中的2X~1Xnm等技术的新型装置和新技术。不过在此次展会上,却意外出现了空档。

在光刻(lithography)相关展示中,涂布及显像装置方面,东电电子和SOKUDO相继推出了新型装置和用于改进装置的新技术。光刻胶和检查装置等方面,JSR和日立高科等进行了多种展示。上述展示均在推进支持目前逐渐成为主流的ArF液浸+二次图形(DP)技术的同时,面向视为新一代光刻技术核心的EUV(Extreme ultraviolet)进行技术开发。另外,作为未来光刻技术而备受瞩目的纳米压印装置也进行了参考展示。蚀刻装置和清洗装置方面,支持微细化的装置纷纷亮相。

SEMICON Japan 2010上支持微细化的装置和技术相继出现,但理应是微细化主角的曝光装置却意外缺席。摆脱雷曼事件的影响后,SEMICON Japan正逐渐恢复到以前的活力。然而,在曝光装置领域中规模最大的企业荷兰阿斯麦(ASML Holding N.V.)的名字并没有出现在参展名单上。第二位的尼康和第三位的佳能也没有展示曝光装置,虽然两家公司的相关企业在会场上设置了展区。当然,三家公司都没有发布新产品。阿斯麦只是在SEMICON Japan 2010期间宣布,该公司供货给2家客户的曝光装置“TWINSCAN”生产300mm晶圆时的吞吐量高达4000张/天(24小时)。

过去也曾有过一段时期,尼康和佳能设立了与在制造装置领域排名第一的美国应用材料(AMAT)及第二的东电电子(TEL)相匹敌的展区,阿斯麦也为了开拓日本市场竭力宣传自家的装置。而在摆脱了雷曼事件的影响、半导体产业逐渐恢复往日活力的SEMICON Japan 2010上,曝光装置厂商的缺席也许暗示着SEMICON Japan和日本企业的作用发生了改变。(记者:长广 恭明)









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