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GLOBALFOUNDRIES发布28纳米模拟/混合信号生产设计流开发套件
时间：2010-09-02 18:01:00
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[导读]完全集成的开放存取AMS流将于2010年第4季度向客户发布
加州密尔必达--(美国商业资讯)--在今天的全球技术大会暨成立大会上，GLOBALFOUNDRIES展示了业界首个开放存取28纳米模拟/混合信号(AMS)生产设计流开发套件。该
完全集成的开放存取AMS流将于2010年第4季度向客户发布
加州密尔必达--(美国商业资讯)--在今天的全球技术大会暨成立大会上，GLOBALFOUNDRIES展示了业界首个开放存取28纳米模拟/混合信号(AMS)生产设计流开发套件。该公司将此AMS流作为平台向客户提供，以构建经过验证的铸造工艺，并打造成功的设计。 GLOBALFOUNDRIES已与Cadence Design Systems达成合作，将共同推出此AMS生产设计流。
GLOBALFOUNDRIES的设计方法总监Richard Trihy说："要在先进技术节点上激发创新，协作和开放无疑是最为重要的。我们与我们的生态系统合作伙伴紧密合作，以提供最佳的设计解决方案。客户可以在我们与Cadence合作开发的28纳米生产设计流先进平台上进行构建，从而使自己的设计和产品与众不同。"
该AMS流的设计特点在于突出GLOBALFOUNDRIES的28 纳米先栅极高 K 金属栅 (HKMG) 技术的先进功能。AMS流中包括以硅片为导向的指示和提高工艺性的建议。客户将可访问IP、库、参考套件和铸造附属品，这可让客户对其设计和流进行再创作，从而满足其个人的设计要求。GLOBALFOUNDRIES还将成为业界首家支持配备DRC+流的公司，GLOBALFOUNDRIES的这一通过硅片验证的解决方案已超越标准的设计规则检查(DRC)，它使用基于形状的两维模式匹配将速度提高 100 倍，不但能识别复杂的制造问题，还能保证精确性。
GLOBALFOUNDRIES已与Cadence达成合作，在2010的第三季度共同推出AMS生产设计流的主要元素，并由GLOBALFOUNDRIES PDK支持所有流步骤。参考流中包括PCell，它可启用Cadence Virtuoso自定义设计工具中的重要先进功能。完整的生产级AMS流预计在2010年第四季度向客户发布，硅片验证则计划在2011年初。
Cadence的产品管理组主管David DesharnaIS说：" 对于那些研究先进节点的公司，积极的开发项目对其有着非常明显且积极的生产率影响，因此Cadence始终是其生态系统合作伙伴的选择对象。我们与 GLOBALFOUNDRIES合作开发此28纳米完全集成的开放存取AMS生产流，向业界提供通往硅片实现的确切路径，硅片实现是EDA360视野的主要基本元件之一。"
该 AMS流包含模拟电路设计与混合信号设计，利用GLOBALFOUNDRIES PDK和合作伙伴标准单元库演示混合模拟与数字设计。参考流中所含设计的各个方面包括管理附属问题、快速电路布局样机研究、模拟布局方针和路由、模拟（如角选择、蒙特卡罗）、电感器合成、金属填充和EM/IR分析。
该设计流还通过白皮书、共同携手应对挑战和GLOBALFOUNDRIES建议的解决方案进行了增强。此外，该设计流还在生产过程采用顶级物理签证步骤，将 GLOBALFOUNDRIES 28纳米要求应用于DRC、光刻模拟和CMP。
加州密尔必达--(美国商业资讯)--在今天的全球技术大会暨成立大会上，GLOBALFOUNDRIES展示了业界首个开放存取28纳米模拟/混合信号(AMS)生产设计流开发套件。该公司将此AMS流作为平台向客户提供，以构建经过验证的铸造工艺，并打造成功的设计。 GLOBALFOUNDRIES已与Cadence Design Systems达成合作，将共同推出此AMS生产设计流。
GLOBALFOUNDRIES的设计方法总监Richard Trihy说："要在先进技术节点上激发创新，协作和开放无疑是最为重要的。我们与我们的生态系统合作伙伴紧密合作，以提供最佳的设计解决方案。客户可以在我们与Cadence合作开发的28纳米生产设计流先进平台上进行构建，从而使自己的设计和产品与众不同。"
该AMS流的设计特点在于突出GLOBALFOUNDRIES的28 纳米先栅极高 K 金属栅 (HKMG) 技术的先进功能。AMS流中包括以硅片为导向的指示和提高工艺性的建议。客户将可访问IP、库、参考套件和铸造附属品，这可让客户对其设计和流进行再创作，从而满足其个人的设计要求。GLOBALFOUNDRIES还将成为业界首家支持配备DRC+流的公司，GLOBALFOUNDRIES的这一通过硅片验证的解决方案已超越标准的设计规则检查(DRC)，它使用基于形状的两维模式匹配将速度提高 100 倍，不但能识别复杂的制造问题，还能保证精确性。
GLOBALFOUNDRIES已与Cadence达成合作，在2010的第三季度共同推出AMS生产设计流的主要元素，并由GLOBALFOUNDRIES PDK支持所有流步骤。参考流中包括PCell，它可启用Cadence Virtuoso自定义设计工具中的重要先进功能。完整的生产级AMS流预计在2010年第四季度向客户发布，硅片验证则计划在2011年初。
Cadence的产品管理组主管David DesharnaIS说：" 对于那些研究先进节点的公司，积极的开发项目对其有着非常明显且积极的生产率影响，因此Cadence始终是其生态系统合作伙伴的选择对象。我们与 GLOBALFOUNDRIES合作开发此28纳米完全集成的开放存取AMS生产流，向业界提供通往硅片实现的确切路径，硅片实现是EDA360视野的主要基本元件之一。"
该 AMS流包含模拟电路设计与混合信号设计，利用GLOBALFOUNDRIES PDK和合作伙伴标准单元库演示混合模拟与数字设计。参考流中所含设计的各个方面包括管理附属问题、快速电路布局样机研究、模拟布局方针和路由、模拟（如角选择、蒙特卡罗）、电感器合成、金属填充和EM/IR分析。
该设计流还通过白皮书、共同携手应对挑战和GLOBALFOUNDRIES建议的解决方案进行了增强。此外，该设计流还在生产过程采用顶级物理签证步骤，将 GLOBALFOUNDRIES 28纳米要求应用于DRC、光刻模拟和CMP。
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