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AWSC选择Calibre纳米平台用于验证先进砷化镓无线集成电路
Mentor Graphics公司(纳斯达克代码：MENT)日前宣布，宏捷科技股份有限公司(AWSC)已经选择Calibre® nmDRC™和nmLVS™产品作为其针对手机和其他无线应用中砷化镓集成电路的金级核签物理验证解决方案。作
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明导CEO：如何解决制程工艺带来的新挑战?
【导读】随着20nm SoC已进入开发阶段，14nm、10nm甚至7nm工艺均在逐步推进中。明导公司(Mentor Graphics)董事长兼首席执行官Walden C. Rhines为大家解析14nm级以后工艺所面临的挑战，明导公司在该方面有何作为? 摘
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明导CEO：微细化程度越高 可靠性设计越重要
赴日访问的明导公司(Mentor Graphics Corp.)董事长兼首席执行官阮华德(Walden C. Rhines)接受了本站记者的采访。阮华德详细介绍“More Moore”——首先想就半导体领域问几个问题。20nm SoC已进入
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瑞昱半导体采用的Calibre PERC执行先进电路的设计检查
21ic讯 Mentor Graphics公司日前宣布瑞昱半导体股份有限公司(Realtek Semiconductor Corp.)目前已开始使用Calibre® PERC™产品作为该公司的生产验证工具，用于对其产品设计进行复杂的电学特性检查(ERC)。
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明导支持三星14nm IC制造工艺平台问世
明导公司(Mentor Graphics Corp)今天宣布，用以支持三星14nm IC制造工艺的综合设计、制造与后流片实现(post tapeout)平台问世，这一平台能够为客户提供完整的从设计到晶圆的并行流程，使早期加工成为可能。完全可
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明导支持三星14nm IC制造工艺平台问世
明导公司(Mentor Graphics Corp)今天宣布，用以支持三星14nm IC制造工艺的综合设计、制造与后流片实现(post tapeout)平台问世，这一平台能够为客户提供完整的从设计到晶圆的并行流程，使早期加工成为可能。完全可互操
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借助Mentor工具 Kalray完成256核处理器28nm SoC设计
近日，Mentor Graphics公司宣布Kalray公司已经完成了其多功能处理器阵列集成电路的设计。该集成电路具有1.6亿个门和30亿晶体管。该设计是在Mentor Graphics公司的功能验证、物理设计、物理验证和可测试性设计流和Que
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关键区域分析与存储器冗余
要点1.一个随机微粒缺陷的概率是布局特征间距的函数。因为存储器有相对致密的结构，它们天生就对随机缺陷更加敏感，于是就可能影响到器件的总良品率。2.一款关键区域分析工具要能精确地分析出存储器冗余，就必须了解
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中芯国际目前已经采用Calibre PERC平台
Mentor Graphics公司与中芯国际集成电路制造有限公司日前共同宣布中芯国际已采用 Mentor Graphics Calibre? PERC 电路可靠性验证解决方案为其最新的防静电(ESD)保护设计法之一。 这么做可帮助客户大型、复杂的系统级
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目前中芯国际已经采用Calibre PERC平台
Mentor Graphics公司与中芯国际集成电路制造有限公司日前共同宣布中芯国际已采用 Mentor Graphics Calibre? PERC 电路可靠性验证解决方案为其最新的防静电(ESD)保护设计法之一。这么做可帮助客户大型、复杂的系统级芯
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中芯国际: 采用PERC产品
MentorGraphics公司（纳斯达克：MENT）与中芯国际集成电路制造有限公司（"中芯国际"，纽约证券交易所：SMI，香港联合交易所：981）今天共同宣布中芯国际已采用MentorGraphicsCalibre?PERC电路可靠性验证解决方案为其
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中芯国际: 采用PERC产品
将用于中芯多电源域的系统级芯片可靠性验证 俄勒冈州威尔逊维尔和上海, 2012年5月22日电 /美通社亚洲/ Mentor Graphics公司（纳斯达克：MENT）与中芯国际集成电路制造有限公司（"中芯国际"，纽约证券交易所：SMI，
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明导国际与台积电在65奈米制程密切合作
明导国际(MentorGraphics)将与台积电(TSMC)共同合作，从台积电的65奈米制程节点开始，支援CalibreYieldEnhancer产品中的SmartFill功能；SmartFill解决方案的分析与自动化填充(filling)功能，可让设计人员无需以手动客
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明导国际与台积电在65奈米制程密切合作
明导国际(Mentor Graphics)将与台积电(TSMC)共同合作，从台积电的 65奈米制程节点开始，支援 Calibre YieldEnhancer 产品中的 SmartFill 功能； SmartFill 解决方案的分析与自动化填充(filling)功能，可让设计人员无
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Calibre方案助力上海华力65/45nm工艺研发生产
明导国际日前宣布，由中国政府、上海联创投资管理有限公司、上海华虹（集团）有限公司、上海宏力半导体制造有限公司以及上海华虹NEC电子有限公司等合资成立的晶圆代工企业上海华力微电子有限公司采用了Calibre RET和
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上海华力采用明导国际 Calibre RET方案
明导国际日前宣布，由中国政府、上海联创投资管理有限公司、上海华虹（集团）有限公司、上海宏力半导体制造有限公司以及上海华虹NEC电子有限公司等合资成立的晶圆代工企业上海华力微电子有限公司采用了Calibre RE
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Calibre方案助力上海华力65/45nm工艺研发生产
明导国际日前宣布，由中国政府、上海联创投资管理有限公司、上海华虹（集团）有限公司、上海宏力半导体制造有限公司以及上海华虹NEC电子有限公司等合资成立的晶圆代工企业上海华力微电子有限公司采用了Calibre RET和
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上海华力微电子采用明导国际Calibre? RET和OPC计算光刻平台
明导国际(纳斯达克代码：MENT)今日宣布，由中国政府、上海联创投资管理有限公司、上海华虹(集团)有限公司、上海宏力半导体制造有限公司以及上海华虹NEC电子有限公司等合资成立的晶圆代工企业上海华力微电子有限公司采
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“新摩尔时代”的新兴应用与技术探寻(下)
(接上期)产业链关键词：28nm、EDA、ODM、制造技术和产品的大繁荣，离不开健全的IC产业链。此篇从与IC相关的产业链角度报道一些企业。EDA2009年EDA和半导体业都下降了10%左右。但在萧条的严冬中，总有一些可敬的顽强生
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明导国际扩大支持台积电Reference Flow 10.0
明导国际(Mentor Graphics)表示已经扩大台积电(TSMC) Reference Flow 10.0中包含的全套Mentor工具与技术，并在Mentor Custom IC设计流程产品中支持TSMC可相互操作制程设计套件(interoperable process design kit，iP
