业内消息,最近ASML(阿斯麦)交付了第三代极紫外(EUV)光刻工具,新设备型号为Twinscan NXE:3800E,配备了0.33数值孔径透镜。相比于之前的Twinscan NXE:3600D,性能有了进一步的提高,可以支持未来几年3nm及2nm芯片的制造。
日前韩国今日电子新闻报道称三星计划斥巨资进口大量的半导体设备,其中包括更多的 ASML 极紫外(EUV)光刻设备。尽管因为合同中的保密条款未能披露具体细节,但证券市场消息称,该协议将使 ASML 在五年内提供总共 50 套设备,而每台单价约为 2000 亿韩元(当前约合人民币 11.16 亿),总价值可达 10 万亿韩元(当前约合人民币 558 亿)。
上个月佳能(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备,号称通过纳米压印光刻(NIL)技术实现了目前最先进的半导体工艺。然而,近日佳能首席执行官三井藤夫在采访中表示,该设备无法出口到中国。
最新消息,近日佳能(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备,号称通过纳米压印光刻(NIL)技术实现了目前最先进的半导体工艺。
近日,网传清华大学的国产 EUV 方案通过用“空间”换“时间”的方式,通过将光刻机放大为光刻厂的方案来规避技术难点,实现“换道超车”。对此,昨天下午中国电子工程设计院官方表示,该项目并非网传的国产光刻机工厂,而是北京高能同步辐射光源项目(HEPS)。
业内消息,台积电亚利桑那凤凰城的晶圆厂已经导入了当地第一台极紫外光(EUV)设备。
据业内消息,近日荷兰半导体设备巨头 ASML 和比利时微电子研究中心(IMEC)宣布双方将在开发最先进高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻试验线的下一阶段加强合作,为使用半导体技术的行业提供原型设计平台和未开发的未来机遇。
据业内信息,美光在日本政府的援助下向其位于广岛的 DRAM 工厂投资了 37 亿美元,该公司计划在广岛工厂安装 EUV 设备来升级工艺,进而使广岛工厂能够制造美光最新一代 DRAM(1-gamma),这将是日本首次使用 EUV 设备。
因为计算机内存芯片需求下降的状况下产生众多供应和开支方面的问题,美光明年将裁员10%,并采取其他削减成本的措施,比如将1γnm DRAM推迟到2025年。
据业内信息,近日全球光刻机巨头ASML在今年的半导体EUV生态系统全球大会上表示,EUV设备出货量这几年来不断上升,去年大约为42台,而今年预测将超过50台。2024年年底预计推出下一代High-NA EUV设备。
据业内消息,近日日本政府再次对台积电抛出橄榄枝,希望台积电在日本建设第二座芯片代工厂,同时日本表示希望ASML公司在先进制程方面和台积电合作。
据业内信息,紫光展锐发布了采用6nm EUV先进制程的T820处理器,该处理器是系统级安全高性能5G SoC 8核心CPU芯片。
11 月 19 日消息,在半导体行业,极紫外光刻技术 (Extreme Ultraviolet,EUV) 对于未来光刻技术乃至于先进制程有着重要意义。
据业内信息报道,本月美国和荷兰谈判并游说ASML不要将光刻机设备出口给中国,但是遭到了ASML的再次拒绝。
自从美国出口管制措施后,荷兰ASML对我国的光刻机贸易就受到了一些限制,但近日华盛顿当局将从光刻机领域寻求对华的进一步技术封锁。
荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)发布2022年第三季度业绩。期内净销售额58亿欧元,同比增长10.24%;净利润17亿欧元,同比下降2.24%。第三季度,ASML卖出了80台全新的光刻系统,以及6台二手光刻系统。三季度新增订单金额达到约89亿欧元,创下历史新高,这其中38亿欧元来...
在桌面级处理器上,AMD多年来一直在多核上有优势,不过12代酷睿开始,Intel通过P、E核异构实现了反超,13代酷睿做到了24核32线程,核心数已经超过了锐龙7000的最大16核。在服务器处理器上,AMD优势更大,64核128线程的都用了两代了,Zen4这一代的Genoa做到了...
据业内消息,近日美国一家商业精密制造公司Zyvex表示制出了亚纳米分辨率光刻系统ZyvexLitho1,这个系统没有采用EUV光刻技术,但是却能产出只有0.7nm线宽的芯片,是目前最高制造精度。
JSR株式会社(JSR Corporation)今天宣布加速与SK hynix Inc.的合作开发进程,以便将JSR旗下公司Inpria的极紫外光刻(EUV)金属氧化物抗蚀剂(MOR)应用于制造先进的DRAM芯片。Inpria拥有广泛专利的EUV金属氧化物光刻胶平台使客户能够高效地对先进节点设备架构进行制版。
为了遏制中国的发展,美国近年来对华采取一系列的干预和打压措施已经屡见不鲜,在高新科技领域的技术封锁/贸易封锁更是美国的惯用伎俩,半导体就是这样的一个领域。据近日报道,美国为了全面遏制中国的半导体业发展,已经向荷兰政府施压,要求荷兰光刻机公司阿斯麦(ASML)扩大对华的禁售范围,在禁止向中国出售最先进的极紫外线光刻机(EUV)基础上,进一步将禁售范围扩大到上一代技术深紫外线光刻机(DUV)的出口。