Imec展示首个采用EUV光刻技术的晶圆级固态纳米孔制造工艺

这项突破性技术使生命科学和医疗保健领域实现可扩展、高精度的生物传感器应用成为可能

比利时鲁汶2025年12月10日 /美通社/ --

• Imec首次成功在300毫米晶圆上采用EUV光刻技术制造晶圆级固态纳米孔。 这项创新将纳米孔技术从实验室规模的概念转化为可扩展的平台，适用于生物传感、基因组学和蛋白质组学领域。
• 纳米孔技术被誉为基因组学和蛋白质组学的变革者，但迄今为止，固态纳米孔因存在变异性和集成难题，始终未能实现大规模生产。 Imec的突破为高通量、兼容CMOS的生物传感器阵列铺平了道路，有望推动个性化医疗、快速诊断和分子数据存储的开发。
• 其采用EUV光刻技术在300毫米晶圆上实现了晶圆级制造，制备出尺寸小至约10纳米的纳米孔，且在整个晶圆上具有高度均匀性。 该制造工艺有潜力实现小于5纳米孔径，随着工艺集成技术的进一步改进，有望取得更大突破。 电气和生物分子易位表征显示其信噪比高达6.2。
• "Imec具有实现这一飞跃的独特优势。 我们可将传统上用于存储和逻辑领域的EUV光刻技术应用于生命科学领域。 利用我们的光刻基础设施，我们已证明能以分子传感所需的精度大规模制造固态纳米孔，"imec的第一作者及研发项目经理Ashesh Ray Chaudhuri表示， "这为医疗保健及其他领域的高通量生物传感器阵列创造了可能。"

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Imec与半导体价值链的全球领先企业以及佛兰德斯地区和全球的科技企业、初创企业、学术界和研究机构开展合作。 Imec总部位于比利时鲁汶，在比利时、欧洲各地和美国设有研究设施，并在三大洲设有代表处。 2024年，imec报告营收10.34亿欧元。