聚焦 | 切入高端光刻胶领域 南大光电加速国产替代

近日，南大光电接受投资者提问时表示，目前 193nm 光刻胶产品正在测试阶段，公司将在新基建的发展中，紧紧抓住“替代进口”的机遇，为国内集成电路产业的发展突破瓶颈和国产化做出积极的贡献。

光刻胶究竟是什么

半导体光刻胶根据曝光光源波长的不同来分类。常用曝光光源一共有六种，分别是紫外全谱（300～450nm）、G线（436nm）、I线（365nm）、深紫外（DUV，包括248nm和193nm）和极紫外（EUV），相对应于各曝光波长的光刻胶也应运而生。不同的光刻胶中，根据不同的需求，关键配方成份如成膜树脂、光引发剂、添加剂等也有所不同，使得光刻胶有不同的性能，进而能够满足相应的需求。目前主要的光刻胶有G线光刻胶、I线光刻胶、KrF光刻胶和ArF光刻胶四种。

目前英特尔，三星等大的半导体制造商，芯片产品已经将量产工艺推进到了14nm至28nm区间，这个也代表目前量产的最高工艺。所以以上光刻胶种类里，能够采用193nm激光光源的浸润ArF线光刻胶，是唯一能够满足应用的光刻胶产品，具有极高的技术壁垒，是半导体光刻胶高精尖的代表。根据SEMI数据，2018年全球半导体用光刻胶市场，G线＆I线、KrF、ArF＆液浸、ArF三类光刻胶三分天下，占比分别占24％、22％、42％。其中，ArF／液浸ArF光刻胶主要对应目前先进IC制程。随着双／多重曝光技术的使用，光刻胶使用次数增加，ArF光刻胶市场需求将加速扩大。在EUV技术成熟之前，ArF光刻胶仍将是主流。未来，随着功率半导体、传感器、LED市场的持续扩大，I线市场将持续增长。而随着精细化需求增加，I线光刻胶将被KrF光刻胶替代，KrF光刻胶市场需求将不断增加。

风口已至 国内替代进程加速

目前，在全球半导体光刻胶领域，主要被日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、罗门哈斯、日本信越、富士材料等头部厂商垄断。其中，在高端半导体光刻胶市场上，全球的EUV和ArF光刻胶主要是JSR、陶氏、信越化学等供应商，份额最大的是JSR、信越化学，TOK也有研发相较之下，中国企业份额不足10％，半导体光刻胶和LCD光刻胶都严重依赖进口，虽然国内光刻胶产业尚不成熟，但是，国内企业已迎来代替窗口，笔者认为主要有以下两个因素推动：

第一、新建晶圆厂投产：2020年～2022年是中国大陆晶圆厂投产高峰期，以长江存储，长鑫存储等新星晶圆厂和以中芯国际，华虹为代表的老牌晶圆厂正处于产能扩张期，未来3年将迎来密集投产。

第二、光刻胶代替窗口期：根据光刻胶的特性来推断，新建晶圆厂将是光刻胶国产代替的主要发展企业。国内新建晶圆厂的密集投产为光刻胶打开了最佳代替窗口。根据国内晶圆厂的建设速度和规划，预计2022年国内半导体光刻胶市场将会是2019年的两倍，约55亿元。届时世界面板产能持续向中国转移，国内面板光刻胶市场需求预计约为105亿元。二者合计将带来约160亿元的市场空间。而且在全球经济矛盾的情况下，产业地位更加重要了。

参考 2019 年 7 月份日韩贸易冲突事件，日本在 2019 年 7 月 1 日突然宣布限制向韩国出口包括光刻胶在内的半导体材料。这三种原材料很难短时间在其他国家找到替代供应商，但同时又是面板、存储器生产中极其关键的材料，韩国面临的窘迫处境使人深思，更应该激发我国对光刻胶等关键原材料独立自主开发的重要性的认知。光刻胶技术在半导体制造中至关重要，国产替代势在必行。

国内企业纷纷布局 技术上还有差距

1、 晶瑞股份：子公司瑞红在光刻胶领域深耕多年，率先实现了i线光刻胶的量产，可以实现0．35μm的分辨率。承担了国家重大科技项目02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目，目前i线光刻胶量产，KrF光刻胶处于研发过程。公司未来重点发展248nm，将着力发展相关业务。

2、 北京科华：6寸的G线、I线市场份额较高；8寸、12寸里面I－line、KrF都有突破，目前份额较小；ArF干法光刻胶已经处于研发及客户认证阶段。

3、 南大光电：于2017年开始研发“193nm光刻胶项目”，并承担“ArF光刻胶产品的开发和产业化”02专项项目。公司已在宁波经济开发区建设25吨KrF光刻胶生产线，预计三年达产销售。

4、 上海新阳：公司在半导体传统封装领域已经成为国内市场的主流供应商。光刻胶领域，公司拥有193nm（ArF）干法光刻胶研发及产业化项目。ARF193nm光刻胶是芯片制造进入90nm铜互联制程后最重要的主流光刻胶产品，一直是国内空白。研发此款光刻胶意在填补国内空白，实现芯片制造在关键工艺技术和材料技术的自主可控。

5、 容大感光：公司1．8亿收购高仕电研，标的生产的PCB油墨产品主要是感光阻焊白油；公司LCD、TP用光刻胶，LED用正性光刻胶及life－off光刻胶，I／G线IC用光刻胶等产品处于国内领先地位。但公司原规划于2018年年底建成1000吨的光刻胶生产线，但直至2019年底仍未实现。

虽然目前光刻胶的国产化正在加速，但半导体和 LCD 高端光刻胶技术与国外有较大差距。在自主研发，原材料依赖，厂商不易切入供应链和稳定商用等方面还是有很大的阻碍。但随着电子信息产业向中国转移和配套产业链的完善，未来进口替代是趋势所向，其中大部分中低端产品已实现进口替代，部分优秀企业已在高端产品进口替代上取得了重大突破，进口替代趋势愈加明显，国产替代或即将实现。

参考资料来源：

1、秦盘：《国产替代再出手，光刻胶投资迎来绝佳窗口期，概念股一览（收藏）》

2、雪球：《国内替代势在必行，光刻胶概念股一览》

3、新浪财经：《巨·研究 ｜ 国内半导体材料领域加速追赶者——光刻胶》

4、狄琼霏：《光刻胶领域龙头》

5、未来智库：《半导体材料行业专题报告：光刻胶，高精度光刻关键材料》

6、与非网：《国产光刻机奥企业全力推进研发进度，南大光电193nm产品已进入测试阶段》

7、冷静三分钟：《什么是光刻胶？现状如何？》