[导读]台系一线封测厂不仅致力于铜制程竞赛,亦兼顾高阶封装技术,由于电子产品大吹轻薄风,功能益趋多元复杂,半导体高阶制程备受青睐,使得高密度封装技术包括晶圆级封装(WLP)、层迭式封装(PoP)、多芯片封装(MCP)等,成为
台系一线封测厂不仅致力于铜制程竞赛,亦兼顾高阶封装技术,由于电子产品大吹轻薄风,功能益趋多元复杂,半导体高阶制程备受青睐,使得高密度封装技术包括晶圆级封装(WLP)、层迭式封装(PoP)、多芯片封装(MCP)等,成为日月光、硅品、力成等业者大举着墨重点。随着芯片尺寸更轻薄短小,制程走向细微化,10层以上封装载板需求益趋增加,带动高密度封装技术备受瞩目,包括晶圆级封装、层迭式封装及多芯片封装等,成为一线大厂着墨焦点。其中,日月光投入研发不遗余力,初估研发费用相当于全球前4大封测厂加总金额的一半。日月光表示,若不投资研发,一旦产业或制程发生大幅变动,公司技术将无法反映绩效,日月光将高阶制程视为2011年抢市利器之一,成为支撑获利成长动能。硅品董事长林文伯亦针对技术发展指出,目前包括低成本芯片尺寸覆晶封装(Low cost FC CSP)及晶圆级封装均已开始量产,层迭式封装亦进入试产阶段,另外,硅品也开始着手研发28奈米覆晶封装(FC BGA)、硅穿孔(TSV)、微型凸块(Mirco Bump)。至于扩散型(Fan out)晶圆级封装,已具有制程能力,但因需与英飞凌(Infineon)签约,权利金成本较高,加上只有1~2个! 装置采用,因而不急着跨入。力成近来积极转进逻辑IC封装业务,同时与尔必达(Elpida)、联电策略联盟,合作开发硅穿孔技术。另外,力成在多芯片封装、系统级封装(SiP)、四方平面无引脚封装(QFN)比重亦愈来愈高,并预计2011年第1季开始在湖口总部隔壁建构3D IC封测厂,为2012年后新技术发展预作准备。封测业者表示,一线大厂之间的竞争已不局限在铜打线封装制程,高阶技术能力亦不容忽视,尽管铜制程具有降低成本、提高毛利率效益,但以长期发展而言,高阶制程能力仍是封测厂长远获利来源关键,因此,各家业者仍将高阶技术视为2011年获利成长动能之一。此外= 一线封装厂力拼制程竞赛,并将战线向下延伸,中小型封装厂亦被迫加速制程转换,近期包括超丰、典范等皆感受到一线大厂来势汹汹,其中,超丰已着手进行铜制程转换,机台数已达100多台,新厂房三、四楼已全数设置铜制程生产线,2011年首季全面上线,现约有6~7家客户导入量产,20家客户在认证阶段。至于典范目前亦拥有100台铜打线机台,预计2011年第1季底增至400台。
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