[导读]力成董事长蔡笃恭今日表示,只要3D IC的TSV技术率先达成熟阶段,市场需求自然会浮现。(巨亨网记者蔡宗宪摄)
日本DRAM晶圆大厂尔必达(6665-JP),台湾晶圆代工大厂联电(2303-TW)以及DRAM封测大厂力成(6239-TW)今(21
力成董事长蔡笃恭今日表示,只要3D IC的TSV技术率先达成熟阶段,市场需求自然会浮现。(巨亨网记者蔡宗宪摄)
日本DRAM晶圆大厂尔必达(6665-JP),台湾晶圆代工大厂联电(2303-TW)以及DRAM封测大厂力成(6239-TW)今(21)日举行TSV三方技术合作记者会,力成董事长蔡笃恭表示,电子产品逐渐朝轻薄短小趋势走,3D IC堆栈技术已成市场主流,并可兼具高效能与低功耗的双重利益,虽然短期内仍看不到该技术对各厂营收之贡献,但只要技术能及早到达成熟阶段,市场需求自然就会浮现。
联电方面则预估,2012年应用在3D IC上的制程技术TSV(Through-Silicon Via,直通硅晶穿孔)在28奈米制程就会开始有机会进入量产阶段,初期产品可能会用在手机领域上。
蔡笃恭表示,3D IC与TSV技术之整合完全符合力成业务与技术上的策略,目前力成在Flash封装上已能达到堆栈8个晶方的水平,可应用在智能型手机产品上,目前力成仍加紧脚步,致力开发16晶方及以上之堆栈技术,维持低封装组合。
蔡笃恭强调,事实上力成早在2007年起就开始为逻辑客户开发SIP(System In a Package,系统级封装),以Wire Bonding(打线接合)与SMT(表面黏着技术)的封装技术组成包括FCCSP(晶圆级封装)、Flip Chip(覆晶封装)与被动组件封装方式。
不过,蔡笃恭表示,SIP技术仍有功耗与效能表现的瓶颈所在,因此TSV技术能有效解决这个问题,藉由联电与尔必达各别在逻辑与DRAM晶圆生产与研发上的领先地位,加上力成过去就有的DRAM/Flash封装与SIP技术,将能成为最佳研发TSV技术的组合,未来该制程技术发展成熟后,力成将可为客户提供最完整的SIP解决方案。
由于电子产品加速朝轻薄短小的方向发展,再加上便利携带与长效待机的功能需求逐渐成为市场主流,因此主控电子产品的IC芯片便不断朝向轻薄短小的趋势发展,由于SOC(整合单芯片)研发与后段封装技术上难度较高,因此便有业者积极研发SIP封装技术,而目前逻辑IC封测厂也早已切入此技术,其中日月光(2311-TW)更是很早就投入资金卡位,希望能加速缩小芯片尺寸,并在市场上占有一席之地。
三家合作将能撷取各家优势,尔必达是市场上最早开发出将3D TSV技术应用在8颗DRAM产品上,力成则是早在2007年就开发出SIP的完整解决方案,因此三方结合将能加速3D IC的发展速度,蔡笃恭强调,外界可能好奇市场何时成熟,何时对相关厂商业绩有益,但此重要性并没有比技术发展至成熟阶段来得强烈,目前市场需求确实存在,技术也将朝此方向发展,因此目前应以技术到位为主要目标,及早在产业尚卡好优势位置,未来才可望抢攻这波商机。
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