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[导读]5月23日消息,据报道,近日日本光刻胶巨头JSR的首席执行官埃里克约翰逊(Eric Johnson)在接受采访时表示,尽管中国在努力推动芯片的自给自足,但中国半导体产业必要的基础设施不足,比如很难掌握基于极紫外(EUV)光刻的复杂芯片制造技术,发展先进制程的芯片制造技术将非常困难。

5月23日消息,据报道,近日日本光刻胶巨头JSR的首席执行官埃里克约翰逊(Eric Johnson)在接受采访时表示,尽管中国在努力推动芯片的自给自足,但中国半导体产业必要的基础设施不足,比如很难掌握基于极紫外(EUV)光刻的复杂芯片制造技术,发展先进制程的芯片制造技术将非常困难。

约翰逊指出,“我认为中国也非常想发展自己的EUV(极紫外光刻)能力和相关的生态系统(比如EUV光刻胶)。但坦率地说,我认为他们要做到这一点非常困难。”

实际上,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)CEO温彼得也在今年1月表达过和约翰逊类似的观点,认为“中国不太可能复制出顶尖的EUV光刻机”。但他当时补充称,永远别那么绝对,中国的物理定律和全世界是一样的,“他们肯定会尝试”。

另外,对于中国在光刻胶领域的追赶,以及希望在高端光刻胶技术上的突破,约翰逊认为,即便中国获得相关化学成分的确切资料,但在纯度、精度及制造上都非常困难,且中国也没有供应链支持。但中国当前积极投资成熟的芯片技术,也是不容忽视的一部分,“人们还没充分意识到,中国有多少机会可以不依赖这些先进制程。”

资料显示,JSR公司成立于1957年,中文名为日本合成橡胶,是全球主要的光刻胶供应商之一。在应用方面,光刻胶是半导体、液晶面板(LCD)、印刷电路板(PCB) 等产业的重要原材料。

在半导体领域,目前光刻机曝光光源一共有六种,分别是紫外全谱(300~450nm)、 G 线(436nm)、 I 线(365nm)、深紫外(DUV,包括 248nm 和 193nm)和极紫外(EUV),相对应于各曝光波长的光刻胶也应运而生,对应分别为,G 线光刻胶、I 线光刻胶、KrF光刻胶、 ArF光刻胶、EUV光刻胶。

目前,在全球半导体光刻胶领域,主要被日本合成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、美国杜邦、日本信越化学、富士电子、罗门哈斯等头部厂商所垄断,其中JSR占据了28%的市场。

而在高端半导体光刻胶市场上,JSR在ArF光刻胶领域以24%的市场份额位居全球第一。在EUV光刻胶方面,TOK和JSR有较高的份额。

从国内的光刻胶市场来看,低端的中g线/i线光刻胶自给率约为20%,KrF光刻胶自给率不足5%,而高端的ArF光刻胶完全依赖进口,是国内半导体的卡脖子技术之一。

至于EUV光刻胶,由于美国的阻挠,大陆目前无法进口EUV光刻机,因此国产EUV光刻胶的开发自然也无从谈起。

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