在无数中国科技企业的带动下，中国芯片也开始逆袭了！

由于当前半导体晶圆工厂不断增加，对于半导体在光刻工艺中所需的薄膜材料需求增加，加上部分半导体厂商致力于开发更为先进的半导体材料进一步增加需求，加上许多现有的薄膜生产商正开发针对先进工艺的薄膜材料，相关半导体薄膜材料已处于供不应求、价格攀升的状态。

按照台积电(TSMC)的计划，在2022年至2025年期间，将陆续推出N3、N3E、N3P、N3X等工艺，后续还会有优化后的N3S工艺，加上可以使用FINFLEX技术，可涵盖智能手机、物联网、车用芯片、HPC等不同平台的使用需求。台积电在3nm制程节点仍使用FinFET晶体管，不过到了2nm制程节点，即2025年量产的N2工艺将启用全新的Gate-all-around FETs(GAAFET)晶体管。

据相关媒体的报道，台积电已做出了战略决策，开始为1nm级别的芯片生产铺路，决定选址中国台湾桃园附近的龙潭科技园区，兴建新的晶圆厂。该地点距离台积电总部所在的新竹科技园区不远，将为当地创造数千个高薪工作岗位。

目前先进半导体工艺的生产设备相当昂贵，估计这间晶圆厂的投资金额大概在320亿美元。相比之下，台积电现有采用3nm和5nm工艺生产的晶圆厂，投资金额约为200亿美元，新晶圆厂有着不小的增幅。

台积电暂时只披露了N2工艺的计划，接下来更为先进的制造技术会如何发展还不清楚，有业内人士估计，1nm级别的工艺可能要到2027年至2028年才能量产，很可能会用到ASML最为先进的High-NA EUV光刻系统，将提供0.55数值孔径。由于1nm级别工艺的芯片无论设计还是制造成本都非常高，不要指望很多公司和芯片会采用。

什么是芯片?

芯片是一个扁平的硅片，上面嵌入了集成电路，甚至包括晶体管。硅晶片上产生了微小开关的图案，通过嵌入材料，形成相互连接形状的深而完整的网格。

有一些复杂的过程导致这些互连电路的构建。接下来将详细讨论所有这些原料硅。硅是技术行业的数字目标。

因为它是一种广泛使用的半导体，制造商通常通过添加磷或硼的方式改善半导体的性能。我们很多人都知道，硅是由沙子制成的，硅元素是继氧之后第二常见的元素。

沙子是二氧化硅的一种形式，硅晶片由其制成。第一步是将沙子熔化成一个大圆筒形的结晶铸，从中切下薄晶片用于芯片。

优质纯硅始终是一种强制性材料，要求比较苛刻。因此，每1000万个硅原子只允许一个杂质原子。硅球的直径范围不同，其中最常见的尺寸为150mm、200mm和300mm。对于芯片，硅片必须非常薄。

因此，在制造这些晶片的地方有一种特殊的标志技术。为什么使用硅?硅是一种半导体，只要满足某些条件，它就变成一种有效的导电体。每个硅原子有四个最外层的电子。因此，实际的纯单晶硅在室温下是不导电的。

为了使其导电，将少量特定原子作为杂质添加到晶圆中，这个过程被称为掺杂。通常，硼和磷原子被大量使用。在元素周期表上，最合适的元素和这些基团与硅非常接近，因此具有非常相似的性质。

众所周知，科技是第一生产力，自从进入21世纪以后，全球的科技产业就开始快速的发展起来;如今电子科技产品已经充斥着我们的生活，并改变着我们的生活;值得一提的是，在所有的电子科技产品中，都需要有芯片的支持才行，离开了半导体芯片的支持，我们的手机都无法开机;所以半导体芯片领域的发展也是十分重要的!

在半导体芯片领域，我国的发展起步较晚，基础也较为薄弱，而且国产科技企业长期以来都受到“买办”思想的影响，所以我们在半导体芯片领域的发展也是比较落后的;这些年来，国产国产科技企业发展所需要的芯片几乎都是依赖于从国外进口而来，这也让国产科技企业很容易被人卡脖子发展，而华为被老美打压就是最好的警醒;我们要想在半导体领域不受制于人，那么就必须要想办法突破才行，如今在无数中国科技企业的带动下，中国芯片也开始逆袭了!

在国内市场上，阿里的平头哥也发布了基于RISC-V架构开发的羽阵611/612芯片，另外阿里还发布了全球首个RISC-V架构开发平台无剑600;这也让我们走在了RISC-V领域的最前沿;另外还有一大中企长江存储也突破了NAND存储芯片的核心技术，并实现了量产，这也直接打破了美韩厂家的垄断!