中微公司：公司正在开发新一代的刻蚀机

4月17日消息 据证券时报e公司报道，中微公司今天举行2019年度业绩说明会。

中微公司董事长、总经理尹志尧称：公司2019年度毛利率34.93%，较上年度减少0.57个百分点，但情况基本稳定。等离子刻蚀设备和MOCVD设备服务于不同的市场，中微刻蚀设备的毛利率已达到国际同行的水平。在今后的几年中，中微会不断地开发新一代的刻蚀设备和MOCVD设备，服务于更高端市场，期望得到更高的毛利率。

中微公司董事长、总经理尹志尧还称：和国际领先的设备公司的产品相比，中微公司产品的技术水平和综合性能，在大多数工艺过程的应用上处于同样的水平。对于一些最高端的刻蚀应用如存储器件的极高深宽比介质刻蚀和逻辑器件的大马士革刻蚀等应用上，中微的刻蚀机还有不足的地方，还需进一步技术创新和设备的升级。我们正在开发新一代的刻蚀机，以向客户提供更好刻蚀设备。

针对“网上有传闻，说中微已开发出5纳米的芯片，请问现在进展如何？”的问题，中微公司董事长、总经理尹志尧回应称：中微公司的主业为开发和制造芯片制造的设备，并非研发和制造集成电路芯片本身。中微公司等离子体刻蚀设备是芯片制造过程中除光刻机外最关键设备。