热烈庆祝东方集成成功举办“等离子工艺技术（上海）研讨会”

21ic讯 2014年6月20日，北京东方中科集成科技股份有限公司(简称东方集成)携手德国SENTECH仪器公司(简称SENTECH)在中国科学院上海微系统与信息技术研究所成功举办等离子工艺技术研讨会(上海)。

作为德国SENTECH仪器公司在中国地区的总代理，东方集成与SENTECH公司有超过10年的合作历史，近年来在半导体、材料分析、光伏等研发和生产领域均有突破性进展。本次研讨会为SENTECH和东方集成首次针对等离子工艺技术主题举办的研讨会，吸引了全国众多科研院校和企事业单位的用户参加会议，反响热烈。

东方集成根据用户关心的热门话题，就深硅刻蚀工艺与MEMS应用、PECVD/ICPECVD沉积高质量介质膜、ALD原子层沉积的应用和在线监控、刻蚀工艺和薄膜沉积的在线监控和终点监测、光谱椭偏仪进行复杂材料分析等议题与用户进行了深入浅出的交流，来自中科院微电子所和微系统所的老师们也同大家分享了SENTECH设备在太赫兹器件上低温沉积薄膜和III-V族半导体刻蚀的一些使用经验。SENTECH专利的高等离子密度平板三螺旋天线ICP源、高精度样品动态控温、低温深硅刻蚀等技术亮点和出色的工艺效果给现场观众留下了非常深刻的印象。

研讨会结束后，参会人员参观了微系统所太赫兹固态技术重点实验室，部分参会人员使用SENTECH SI 500D ICPECVD进行了实际操作和样品制备。SI 500D可在80℃至130℃范围低温沉积高性能薄膜，低温低损伤沉积可用于带胶沉积的剥离工艺，高击穿电压和低氢含量薄膜可作为非常出色的绝缘层，参会人员对结果表示非常满意。

作为电子测试测量领域领先的综合服务商，东方集成总部设在北京，在上海、南京、苏州、深圳、武汉、西安、成都等地设有分支机构，凭借覆盖全国的营销服务网络和一流的技术服务团队，可为全国各地客户提供快速响应、高质量的本地化技术服务。