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[导读]5月8日,据中央社报道,由于液态氮外包厂商施工失误,导致延迟出货影响,半导体磊晶厂英特磊4月营收为4800万元(新台币,下同),较上个月减少23.8%,也较去年同期减少0.9%。累计1至4月营收2.29亿元,年减4.27%。

5月8日,据中央社报道,由于液态氮外包厂商施工失误,导致延迟出货影响,半导体磊晶厂英特磊4月营收为4800万元(新台币,下同),较上个月减少23.8%,也较去年同期减少0.9%。累计1至4月营收2.29亿元,年减4.27%。

英特磊表示,4月营收受到影响主要是因液态氮承包厂商施工疏失,导致分子束磊晶(MBE)设备延迟出货,预估此次延迟出货可在1至2个月内补回,后续赔偿损失将交由保险公司处理。

现行化合物半导体商用磊晶制程技术,大致可分成MOCVD(有机金属气相沉积法)和MBE(分子束磊晶技术)。若以成长技术而论,MOCVD的成长条件由气相方法进行,透过氢气或氮气等特定载气引导,使三族和五族气体均匀混合后,再导入反应腔体中,接着透过适当的反应温度(400~800度),让气体裂解并成长于基板上。MBE成长条件则透过元素加热方式,借由超高真空环境的腔体,将所需磊晶元素加热升华形成分子束,当分子束接触基板后,就可形成所需磊晶结构。

而英特磊这两样制程技术都可做,并采用MBE技术从事砷化镓(GaAs)、锑化镓(GaSb)、磷化铟(InP)化镓等三五族化合物半导体磊晶(Epi)的生产,拥有从基板到磊晶的垂直整合技术能力。

磊晶可提供无线通讯、卫星通讯、光纤通讯5G等商用,甚至是太空与国防上的红外线感测、夜视、摄影等产品应用,受惠5G基础建设布建,以及车用化合物芯片的需求将逐步增加,这也为磊晶市场δ来增加成长动能。

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