Cadence发布7纳米工艺Virtuoso先进工艺节点扩展平台

 下一代定制设计平台大幅提升先进工艺生产力

楷登电子(美国Cadence公司)今日正式发布针对7nm工艺的全新Virtuoso® 先进工艺节点平台。通过与采用7nm FinFET工艺的早期客户展开紧密合作，Cadence成功完成了Virtuoso定制设计平台的功能拓展，新平台能帮助客户管理由于先进工艺所导致的更复杂的设计以及特殊的工艺效应。新版Virtuoso先进工艺平台同样支持所有主流FinFET先进节点，性能已得到充分认证;同时提高了7nm工艺的设计效率。

为了应对7nm设计的众多技术挑战，Virtuoso先进工艺平台提供丰富的版图设计功能，包括：支持多重曝光(MPT)的色彩感知的编辑功能、支持FinFET网格功能、及支持模块生成器(ModGen)器件阵列编辑功能等多种高级编辑功能。同时，在电路设计流程中，客户可以使用Spectre® APS仿真器、Virtuoso ADE产品套件和Virtuoso 原理图编辑器执行对多工艺边界的蒙特卡洛分析(Monte Carlo Analysis)，从而加强电路设计的差异分析。

“作为移动运算的领军企业之一，我们致力于以最高性能、最低功耗和最高密度实现创新的先进工艺节点设计，”联发科技(MediaTek)模拟设计与电路技术部总经理Ching San Wu表示。“我们与Cadence长期开展密切合作，成功开发并部署了基于Virtuoso先进工艺节点平台的定制设计方法。采用Cadence针对7nm工艺专门开发的多项独特功能，我们得以成功实现近期的流片。”

新版Virtuoso先进工艺节点平台的主要特色包括：

·多重曝光和色彩感知版图：新平台为各种色彩感知“多重曝光”定制设计流程提供关键支持，符合7nm工艺的基准要求，并助用户提高设计生产力。

·ModGen器件阵列：提供与关键合作伙伴共同开发的模块组，助设计师提高7nm工艺节点生产力，降低版图复杂度。

·自动FinFET布局：支持自动FinFET网格布局，全面简化7nm工艺所需的基于颜色的FinFET设计方法。在充分了解7nm工艺限制条件的基础上，Virtuoso先进工艺节点平台大幅简化了版图设计，并将7nm设计中常见错误发生的可能性降至最低;从而使定制的数字和模拟模块的版图设计时间缩短最高达50%。

·差异分析：支持针对FinFET技术的高性能蒙特卡洛分析和高西格玛分析，可使总的仿真时间缩短至原时长的十分之一。

“经过长期的创新实践以及与业界领袖的战略合作，Cadence已经成为先进工艺节点定制设计工具的顶尖供应商，”Cadence高级副总裁兼定制IC和PCB事业部总经理Tom Beckley表示。“通过与联发科技等客户的广泛合作，我们降低7nm工艺设计成本的方法已获得充分证实。我们的许多客户都已使用Virtuoso先进工艺节点平台成功流片，交付量产。”