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[导读]中国大陆半导体产业协会积体电路设计分会理事长魏少军表示,20nm制程后半导体产业生态系统将有大改变,未来晶圆代工厂将与IC设计厂以类IDM厂形式合作。全球半导体联盟(GSA)今天举办半导体领袖论坛。魏少军应邀出席演

中国大陆半导体产业协会积体电路设计分会理事长魏少军表示,20nm制程后半导体产业生态系统将有大改变,未来晶圆代工厂将与IC设计厂以类IDM厂形式合作。

全球半导体联盟(GSA)今天举办半导体领袖论坛。魏少军应邀出席演讲20nm制程后时代IC设计业的发展挑战。

魏少军说,半导体制程技术推进至20nm后,晶片效能可望持续提升,但恐难以达到降低成本的目标。

魏少军表示,20nm制程后半导体生态系统将有大改变,除元件架构将改变外,未来并将自过去技术导向,转为应用导向,须兼顾营运模式及技术创新。

未来软硬体平台将结合。魏少军指出,软体将变成必需。他还说,随着制造成本增加,晶圆代工来源将愈来愈少,产能支援也将减少。

为确保投资回收,魏少军说,晶圆代工厂将更小心挑选客户,并将与IC设计厂以类整合元件制造(IDM)厂型态合作。

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