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[导读]台积电的晶圆代工制程由28纳米向20、16纳米挺进,后段封测厂日月光、矽品及力成也扩大高阶封测布局,抢占行动装置商机。 据了解,日月光、矽品等虽下修今年资本支出,年减幅逾三成,但两家封测厂均强调,今年投资

台积电的晶圆代工制程由28纳米向20、16纳米挺进,后段封测厂日月光、矽品及力成也扩大高阶封测布局,抢占行动装置商机。

据了解,日月光、矽品等虽下修今年资本支出,年减幅逾三成,但两家封测厂均强调,今年投资重心主要集中在高阶封测领域。去年资本支出相对保守的力成,在客户订单逐步回温下,今年将小幅提升资本支出至70亿元,资源也集中在高阶封测领域。

日月光和矽品强调,今年的高阶封测制程主要用于提升晶圆尺寸覆晶封装(CSP)、球闸阵列封装(BGA)、系统级封装(SiP)、堆叠式封装(POP)及植晶凸块等高阶封测产能。

封测业者透露,高阶封装可大幅缩小半导体元件的体积,并提升散热效果,这类半导体元件普遍应用在智能型手机等行动装置,晶圆代工厂将制程推进至28、20纳米制程,对高阶封装制程也将急速拉升。





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