【SEMICON China 新产品与新技术】高性能化学处理材料

时间：2011-03-10 07:55:00

关键字： CHINA SEMI IC AD

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[导读]杜邦亚普纳米材料（DA Nano）的CoppeReady? Cu3900 & CoppeReady? Cu3988铜研磨液，CoppeReady? Cu6545 barrier研磨液和MicroPlanar? CMP5714M? 钨研磨液是针对32nm及更加先进的制程研发的产品，可以根据客户需求调节

杜邦亚普纳米材料（DA Nano）的CoppeReady? Cu3900 & CoppeReady? Cu3988铜研磨液，CoppeReady? Cu6545 barrier研磨液和MicroPlanar? CMP5714M? 钨研磨液是针对32nm及更加先进的制程研发的产品，可以根据客户需求调节配方，提高产品良率，在世界领先的IDM和Foundry客户中深受好评。源于DA Nano专利的DCMP?配方，DA Nano的研磨液均可以高比例稀释，大幅延长研磨垫等部件的使用时间，使得客户的运营成本得以降低。杜邦半导体材料覆盖了晶圆制造及封装工艺的多个关键环节。Semi-fabrication.dupont.com?