[导读]比利时奈米电子研发机构爱美科 ( Imec )与全球晶片设计、验证与制造及电子系统软体供应商新思科技( Synopsys )宣布,双方将扩大合作范围并将电脑辅助设计技术(Technology Computer Aided Design, TCAD)应用于10奈米
比利时奈米电子研发机构爱美科 ( Imec )与全球晶片设计、验证与制造及电子系统软体供应商新思科技( Synopsys )宣布,双方将扩大合作范围并将电脑辅助设计技术(Technology Computer Aided Design, TCAD)应用于10奈米鳍式电晶体 (FinFET)制程。
此合作案是以14奈米等制程为基础,而透过这项合作案,新思科技的Sentaurus TCAD 模型将可有效支援新世代FinFET 装置。双方的合作将包含新装置架构的3D建模(3-D modeling),可协助半导体产业生产高效能、低功耗的产品。
爱美科逻辑程式部(logic program)总监Aaron Thean表示,该机构当前的研发重点在于解决10奈米制程所面临的半导体装置及材料上的挑战,而新思科技是TCAD技术的领导厂商,与新思科技合作将可强化其在先进研究领域的影响力。
爱美科与一流IC厂商合作研发先进CMOS微缩(scaling)技术。这项技术涉及的不只是如何缩小晶片尺寸,装置微缩(device scaling)还需要新材料(materials)、装置架构(device architectures)、3D整合及光学(photonics)等各式新技术的支援。爱美科与新思科技的合作特别强调FinFET与tunnel FET (TFET)在新装置架构的开发及最佳化(optimization)。
于12月8日至10日在旧金山所举办的2012年国际电子元件大会(IEEE International Electron Devices Meeting,IEDM)上,爱美科发表了利用应力源(stressor)提升载子迁移率(carrier mobility)的研究论文,这对10奈米FinFET装置的微缩相当重要。而使用新思科技的TCAD工具将有助于爱美科加??速此项研究的发展。
新思科技矽晶工程事业群资深副总裁暨总经理柯复华表示:「与爱美科扩大合作有助于提升新思科技对于新世代FinFET装置建模的TCAD模拟工具。爱美科为一以先进研发著称的知名专业厂商,而双方的合作将有助于强化新思的TCAD解决方案。」
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