中芯推出1.2伏低功耗嵌入式EEPROM平台
时间:2012-09-24 06:13:00
[导读]中芯国际宣布,推出1.2伏(V)低功耗嵌入式EEPROM的平台,与其0.13微米(um)低漏电(LL)工艺完全相容。
该平台经过流片以及IP验证,在降低功耗、晶片尺寸和成本的同时,能提高资料的安全性。这个新平台为中芯国
中芯国际宣布,推出1.2伏(V)低功耗嵌入式EEPROM的平台,与其0.13微米(um)低漏电(LL)工艺完全相容。
该平台经过流片以及IP验证,在降低功耗、晶片尺寸和成本的同时,能提高资料的安全性。这个新平台为中芯国际的成熟工艺节点提供了最新的增值服务,主打中国快速发展的双介面金融IC卡市场及全球非接触式智慧卡市场。
该平台经过流片以及IP验证,在降低功耗、晶片尺寸和成本的同时,能提高资料的安全性。这个新平台为中芯国际的成熟工艺节点提供了最新的增值服务,主打中国快速发展的双介面金融IC卡市场及全球非接触式智慧卡市场。





