光源供应商看好EUV导入量产时程

Cymer迄今已出货四套3100光源。其3100光源功率为100W，每小时吞吐量约60片晶圆。但该公司预计2012年可开始量产出货3300光源，功率提高到250W，每小时吞吐量则提高到了100~120片晶圆。“这些产品规格是我们与ASML共同制定，”Cymer 公司微影应用总监Benjamin Lin说。

不久前，业界还认为光源功率的提升是实现EUV量产应用的一大阻碍，但业界厂商的努力，看来可望加速达到此一目标。

EUV 目前仍是下一代微影术(NGL)的首选。晶片产业开始采用EUV的关键，是其吞吐量指标必须符合成本效益，其中光源又是驱动吞吐量的关键。而从目前的技术来看，“我们采用的雷射激发电浆型(LPP)光源技术，是实现功率调节的最佳方案，”Lin说。

与另一种放电激发电浆型(DPP)技术相比，“LPP拥有机台较小、易于发展大功率、更高重复频率，以及可透过雷射光源的提高来进行更好调节等特性，”他表示。

该公司表示，透过和晶片制造商的直接合作，将EUV技术导入晶圆厂试产线，将加快该技术的成熟脚步，为迈入更小制程节点的晶圆制造提供避免昂贵双重曝光步骤的方案。 (邓荣惠)