IMEC利用CMOS工艺制程GaN MISHEMTs

借助这项新技术，GaN MISHEMTs（ metal-insulator semiconductor high-electron mobility transistors，无金属高电子迁移率晶体管）能够严格按照CMOS（Complementary Metal Oxide Semiconductor，互补金属氧化物半导体）的污染控制要求在工艺线上进行生产（不再需要加入金这种贵金属），进而能够在200mm硅衬底上大批量生产高质量的氮化镓产品。

IMEC介绍了该技术可实现大尺寸生产和兼容性好的优势。氮化镓是一种极具潜力能替代硅元件的新一代功率器件。IMEC使用Applied Materials公司的MOCVD最近成功地在200毫米硅芯片上生产出表面无裂纹并且弯曲度小于50微米的氮化镓硅芯片是一个重要的里程碑，因为生产大尺寸芯片对降低成本效果显着。

同时，IMEC的新技术展示了使用标准CMOS工艺生产GaN MISHEMTs，并验证了所有的设备仅仅只要求在软件和硬件做微小的调整即可。

通常，金这种贵金属被用于氮化镓产品的电路连接和门电路结构，但它使氮化镓的加工与CMOS工艺不兼容。而IMEC基于无金的电路连接系统，和无金的金属绝缘半导体（MIS）门结构解决了兼容问题。这种MISHEMT设计还能有效降低传统HEMTs（高电子迁移率晶体管）的高漏电问题。