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[导读]台积电昨(26)日宣布,已顺利在开放创新平台,建构完成28纳米设计生态环境,同时客户采用台积开放创新平台所规划的28纳米新产品设计定案(tape out)数量已达到89个。 台积电也将在美国加州圣地牙哥举行的年度设

台积电昨(26)日宣布,已顺利在开放创新平台,建构完成28纳米设计生态环境,同时客户采用台积开放创新平台所规划的28纳米新产品设计定案(tape out)数量已达到89个。

台积电也将在美国加州圣地牙哥举行的年度设计自动化会议(DAC)中,发表多项客制化设计工具,让客户能依台积电提供的技术平台和技术套件,导入最新的28纳米制程。

值得一提的是,台积电在这个开放创新平台,首次呈现20 纳米穿透式双重曝影设计(TransparentDouble Patterning )解决方案,展现台积电领先业界的设计能力。

台积电表示,该公司28纳米设计生态环境已准备就绪,在开放创新平台,将提供包括设计法则检查、布局与电路比较及制程设计套件的基础辅助设计;同时提供标准元件库及存储器编译器等基础矽智财,和USB、PCI与DDR/LPDDR等标准接口矽智财。客户可经由台积电的网络下载这些设计工具与套件。

台积电设计暨技术平台处资深处长侯永清表示,透过台积电的设计平台,客户将能立即运用台积电28纳米先进技术及产能优势,来生产他们的设计;客户也能在不久的将来准备向更先进的20纳米世代设计迈进。

他说,透过与电子自动化设计厂商和矽智财伙伴间的紧密合作,台积电已建构一个完备且稳固的28纳米设计生态系统,成功地协助客户达成产品设计的目标。



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