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[导读]中国上海,2011年4月25日—全球领先的半导体设计、验证和制造软件及知识产权(IP)供应商新思科技有限公司(Synopsys, Inc., 纳斯达克股票市场代码:SNPS),以及中国大陆领先的IC代工服务供应商上海华虹NEC电子有限

中国上海,2011年4月25日—全球领先的半导体设计、验证和制造软件及知识产权(IP)供应商新思科技有限公司(Synopsys, Inc., 纳斯达克股票市场代码:SNPS),以及中国大陆领先的IC代工服务供应商上海华虹NEC电子有限公司(HHNEC)今日宣布:即日起推出130纳米参考流程版本3.0。该参考流程是Synopsys和华虹NEC共同合作的结晶,它将Synopsys Eclypse? 低功耗解决方案加入到之前为设计师所提供的各种参考流程之中。 设计师们可直接进入到一条通往华虹NEC的130nm硅工艺的优化路径,从而确保他们满足其项目和成本要求。

参考流程3.0具有Synopsys Galaxy?实施平台和Discovery?验证平台的实施和验证功能,可确保工程师部署各种先进的低功耗技术。参考流程3.0增加的功能包括:用于低功耗等效性验证的Synopsys Formality?解决方案、用于静态规则检验的MVRC、用于功率优化的Power Compiler?,以及用于多电压仿真的带有MVSIM仿真器的VCS?。

采用华虹NEC内部开发的单元库、SRAM和130nm IO库对该参考设计流程进行了验证。华虹NEC的一个低功耗完整单元库现在可供客户使用,用于验证参考流程的测试芯片采用了多电源和多电压设计。

“华虹NEC的130nm逻辑工艺需要一种能够应对漏电功率的流程,以满足客户对各种高功效设计的需求。”华虹NEC的设计服务总监Wang Nan说:“我们与Synopsys紧密合作为我们的共同客户提供解决方案,以确保他们能够充分利用Synopsys的低功耗设计强项和我们的制造专长。”

“Synopsys与我们的半导体代工伙伴密切合作,确保我们的共同客户加速从设计到制造的过程。”Synopsys企业营销和战略联盟副总裁Rich Goldman说:“我们与华虹NEC合作,为工程师团队提供了一种经过验证的参考流程。该参考流程面向华虹NEC 130nm工艺技术和利用Synopsys低功耗实施和验证技术,推动了工程师们的系统级芯片设计。”



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