EUV时代已来临，ASML全力以赴

ASML公司EUV(Extreme ultraviolet)系统产品开发经理Hans Meiling透露，其公司采用EUV alpha演示工具印制出了亚40纳米光阻图像。

Meiling在提交给SPIE微光刻大会的一篇论文中汇报了EUV领域的进展，包括EUV掩膜、可工作晶圆和十字刻度线(reticle stages)在真空环境内的可用性和in-situ EUV系统的清洗。

Meiling和来自竞争对手尼康的Takaharu Miura都谈到了面向32纳米节点的EUV已准备就绪。Meiling透露，ASML已交付7套EUV光掩膜，另外13套即将交付。光掩膜空白符合32纳米节点对平整度的要求。ASML还演示了成功处理光滑EUV掩膜，没有出现额外缺陷。

Meiling表示，该公司计划今年上半年向Albany NanoTech及IMEC交付演示工具。