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2011年半导体设备市场十大预测
2011年半导体设备市场将会出现哪些情况？以下是投资银行Barclays Capital 分析师C.J. Muse收集业界各方信息所列出的十项预测。1. 半导体设备市场景气向上？ Muse表示，半导体厂商资本支出趋势，有从持平朝增加5~1
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2011年半导体设备市场十大预测
户的双倍光刻订单(包括浸润式光刻设备与EUV)，该市场将保持强劲成长。BarclaysCapital将2011年浸润式光刻设备市场的出货量预测，由原先估计的130台上修为138台，2010年的出货量则估计为115台；在这138台出货中，内存
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2011年半导体设备市场十大预测
2011年半导体设备市场将会出现哪些情况？以下是投资银行Barclays Capital 分析师C.J. Muse收集业界各方信息所列出的十项预测。1. 半导体设备市场景气向上？ Muse表示，半导体厂商资本支出趋势，有从持平朝增加5~1
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VLSI Research公布第三季度半导体设备厂商排名
VLSIResearch预测称2010第四季度半导体设备市场有所降温，全年半导体设备销售额预计增长96%，达到474亿美元。TokyoElectron和Advantest在排名前十的设备厂商中获得最大的增长幅度。AppliedMaterials和ASML继续保持领
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VLSI Research公布第三季度半导体设备厂商前十名单
VLSI Research预测称2010第四季度半导体设备市场有所降温，全年半导体设备销售额预计增长96%，达到474亿美元。Tokyo Electron和Advantest在排名前十的设备厂商中获得最大的增长幅度。Applied Materials和ASML继续保持
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光罩、光阻问题大 EUV机台量产路途遥
微影设备大厂艾司摩尔(ASML)首台深紫外光(EUV)机台已正式送到客户端进行装机，日前，ASML也用EUV机台试产出首片27奈米半间距(half pitch)的芯片。不过，目前EUV除成本高昂外，光罩检测与光阻为目前EUV进入量产的两大
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晶圆厂资本支出 明年估增23%
国际半导体设备材料产业协会（SEMI）昨（9）日发布最新全球晶圆厂预测报告指出，2011年全球包括三星、英特尔、台积电（2330）等晶圆厂在制程相关设备的投资金额，预估将提高23%达到400亿美元，超越2007年，创下19年来
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EUV机台
深紫外光(EUV)技术是次世代微影技术之一，其他还还包括无光罩多重电子束、浸润式微影多重曝光技术等，EUV技术主要的开发商是设备大厂爱司摩尔(ASML)，当半导体制程技术走入20奈米或是10奈米以下，现有的浸润式曝光(I
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ASML TWINSCAN系统实现新的里程碑
ASML近日宣布，两位使用TWINSCAN 光刻机的芯片制造商实现了生产新纪录，即在24小时内实现了超过4000片晶圆的处理。这个里程碑记录是在XT:870和XT:400上实现的，两家使用者为亚洲的不同客户。设备帮助他们提高了300mm
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ASML TWINSCAN系统实现新的里程碑 每日处理晶圆超越4000片
ASML近日宣布，两位使用TWINSCAN 光刻机的芯片制造商实现了生产新纪录，即在24小时内实现了超过4000片晶圆的处理。这个里程碑记录是在XT:870和XT:400上实现的，两家使用者为亚洲的不同客户。设备帮助他们提高了300mm
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东芝展望EUV曝光技术量产在即或需要与双图案化技术并用
东芝在荷兰阿斯麦（ASML）公司于2010年11月18日在东京举行的“ASML/BrionComputationalLithographySeminar2010”会议上，展望了引进EUV（超紫外线）曝光技术进行量产的前景。东芝统管光刻技术开发的东木达彦表示“即
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东芝展望EUV曝光技术量产在即
东芝在荷兰阿斯麦(ASML)公司于2010年11月18日在东京举行的“ASML/Brion Computational Lithography Seminar 2010”会议上，展望了引进EUV(超紫外线)曝光技术进行量产的前景。东芝统管光刻技术开发的东木达
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ASML高层：看好明年半导体资本支出
道琼社、ThomsonReuters报导，欧洲半导体设备业龙头ASMLHoldingNV财务长PeterWennink19日在摩根士丹利年度科技媒体电信(TMT)大会上表示，明年度半导体业的资本支出将增加，该公司客户的需求强劲使得前置时间达10个月
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ASML高层看好明年半导体资本支出
道琼社、Thomson Reuters报导，欧洲半导体设备业龙头ASML Holding NV财务长Peter Wennink 19日在摩根士丹利年度科技媒体电信(TMT)大会上表示，明年度半导体业的资本支出将增加，该公司客户的需求强劲使得前置时间达1
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EUV光刻机价格暴涨至近亿美元
多年以前，VLSI Research公司的总裁Risto Puhakka曾经预测称：“EUV光刻系统将乏人问津，其售价有可能提升到1.25亿美元的水平。”当时几乎所有的人都认为他是在满嘴跑火车，可是如今，越来越多的厂商开始停止采购这种
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次世代微影技术主流之争
目前次世代微影技术发展仍尚未有主流出现，而身为深紫外光 (EUV)阵营主要推手之一的比利时微电子研究中心(IMEC)总裁Luc Van den hove指出，EUV技术最快于2014年可望进入量产，而应用存储器制程又将早于逻辑制程，他也
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次世代微影技术主流之争 EUV可望2014年进入量产
目前次世代微影技术发展仍尚未有主流出现，而身为深紫外光(EUV)阵营主要推手之一的比利时微电子研究中心(IMEC)总裁Luc Van den hove指出，EUV技术最快于2014年可望进入量产，而应用内存制程又将早于逻辑制程，他也指
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ASML报喜 晶圆厂好兆头
先进制程设备大厂艾斯摩尔（ASML）第三季财报优于预期，并预估第四季营收比第三季成长一成，由于艾斯摩尔国内大客户为台积电（2330），分析师认为将替晶圆代工第四季业绩表现再添好兆头。 艾斯摩尔主要提供12
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ASML公布其Q3业绩
ASML公司于10月13日公布其未经审计的Q3业绩如下;l 2010 Q3的销售额为11.76亿欧元，相比于Q2的销售额为10.69亿欧元。( 2009 Q3销售额为5.55亿欧元)。l 2010 Q3 的纯利为2.69亿欧元，或者是销售额的22.8%，相比于2010
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沉浸式光刻机供货紧缺 台系芯片厂制程升级受阻
据内存业者透露，由于著名光刻设备厂商ASML生产的NXT:1950i沉浸式光刻机目前供货十分紧缺，因此台系内存芯片厂商收到所订购的这种设备的时间 可能会再后延12个月之久，由于NXT:1950i沉浸式光刻机对这些厂商转移到38n
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