2010年浸润式微米光刻机台设备(ImmersionScanner)大缺货,形成DRAM产业转进40纳米工艺的天险,随着缺货问题解决,ASML针对20纳米工艺,推出深紫外光(EUV)机台,目前已有10台订单在手,预计2012年将正式交货;不过,对
2010年浸润式微米光刻机台设备(Immersion Scanner)大缺货,形成DRAM产业转进40纳米工艺的天险,随着缺货问题解决,ASML针对20纳米工艺,推出深紫外光(EUV)机台,目前已有10台订单在手,预计2012年将正式交货;不过,对
据路透(Reuters)报导,荷兰半导体设备商ASML指出,日本强震打乱客户供应链,导致部分客户下单态度出现迟疑现象。 ASML以微显影机台引领半导体设备市场,近期发布2011年第1季财报,该期间ASML营收为14.52亿欧元(约
荷兰半导体光刻设备供应商ASMLHoldingNV日前宣布,第一季度净利润增加两倍以上达到3.95亿欧元,季度营收同样增加近一倍升至14.5亿欧元,好于分析师预期。季度利润升至3.95亿欧元(5.70亿美元)或每股0.9欧元,一年前同
VLSI Research市调公司近日公布了2010年全球芯片厂用设备制造厂商排行榜,应用材料公司仍然稳居老大位置,而近年来相当活跃的光刻设备厂商荷兰ASML则排名超过东电电子公司(TEL)上升到了第二位,东电电子则在排行榜上
国内封测业乐见国际封测设备大厂透过并购壮大版图,包括日月光、矽品及力成等封测大厂强调,爱德万(Advantest)的半导体测试机台长期以来一直是台湾封测业重要设备采购对象,随国际整合元件大厂(IDM)持续对台下
数十年来,光刻一直是关键的芯片生产技术。今天它仍然很重要。不过,在最近的SPIE先进光刻技术大会中,一些迹象显示,光刻界及其客户需要的微缩──字面上的微缩──事实上几乎已经有点像心理安慰了。 焦虑、紧张
数十年来,微影一直是关键的晶片生产技术。今天它仍然很重要。不过,在最近的 SPIE 先进微影大会中,一些迹象显示,微影社群及其客户需要的微缩──字面上的微缩──事实上几乎已经有点像心理安慰了。焦虑、紧张和忧
英特尔公司正在计划将目前的193nm浸入式微影技术扩展到14nm逻辑节点,此一计划预计在2013下半年实现。同时,这家芯片业巨头也希望能在2015年下半年于10nm逻辑节点使用超紫外光(EUV)微影技术进行生产。但英特尔微影技
英特尔公司正在计划将目前的193nm浸入式微影技术扩展到14nm逻辑节点,此一计划预计在2013下半年实现。同时,这家芯片业巨头也希望能在2015年下半年于10nm逻辑节点使用超紫外光(EUV)微影技术进行生产。但英特尔微影技
英特尔公司正在计划将目前的193nm浸入式微影技术扩展到14nm逻辑节点,此一计划预计在2013下半年实现。同时,这家芯片业巨头也希望能在2015年下半年于10nm逻辑节点使用超紫外光(EUV)微影技术进行生产。但英特尔微影技
英特尔公司正在计划将目前的193nm浸入式微影技术扩展到14nm逻辑节点,此一计划预计在2013下半年实现。同时,这家芯片业巨头也希望能在2015年下半年于10nm逻辑节点使用超紫外光(EUV)微影技术进行生产。但英特尔微影技
英特尔公司正在计划将目前的193nm浸入式微影技术扩展到14nm逻辑节点,此一计划预计在2013下半年实现。同时,这家芯片业巨头也希望能在2015年下半年于10nm逻辑节点使用超紫外光(EUV)微影技术进行生产。 但英特尔微
比利时半导体研究机构IMEC最近宣布在其设在比利时鲁汶的研究设施中安装了一台ASML生产的NXE:3100试产型EUV光刻机。IMEC机构的总裁 兼CEO Luc Van den hove会在今天召开的SPIE高级光刻技术会议(SPIE advanced lithog
日本尼康公司曾经一度在高端光刻机市场上相比其对手荷兰ASML公司有所失宠,不过最近由于高端光刻机市场需求相当旺盛,尼康公司的光刻部门终于摆脱了两年以来一直赔本经营的局面。 由于市场对尼康193nm液浸式光刻工
据道琼(DowJones)报导,由于智能型手机、平板计算机2011年持续发烧,殴洲半导体业者可望大展身手,走出往昔的经济泥沼,加上美国、亚洲对手上需面对棘手的PC市场挑战,欧洲业者当前更显轻松写意。半导体设备大厂荷商
北京时间1月19日下午消息,欧洲最大的半导体设备制造商荷兰阿斯麦控股公司(ASMLHoldingNV)发布第四季度财报,由于2010年销量创历史记录,其第四季度利润超过之前分析师预测。阿斯麦今日报道称,公司第四季度净利润为
欧洲最大的半导体设备制造商荷兰阿斯麦控股公司(ASMLHolding NV)发布第四季度财报,由于2010年销量创历史记录,其第四季度利润超过之前分析师预测。阿斯麦报道称,公司第四季度净利润为4.07亿欧元(5.49亿美元),而去
2011年全球半导体设备业中会发生什么?以下是巴克莱Capital的著名分析师CJ Muse收集各种报告后的汇总如下:1.Fab tool upturn?半导体设备业仍是增长 会看到2011年半导体设备业的投资可能持平,或者有5-10%之间的
2011年全球半导体设备业中会发生什么?以下是巴克莱Capital的著名分析师CJ Muse收集各种报告后的汇总如下:1.Fab tool upturn?半导体设备业仍是增长 会看到2011年半导体设备业的投资可能持平,或者有5-10%之间的