EUV光刻机

EUV光刻机断货 台积电5nm工艺抢三星头彩：A14/麒麟1020首发

台积电上周发布了3月及Q1季度财报，营收同比大涨了42%，淡季不淡。不过接下来的日子半导体行业可能不太好过了，ASML的EUV光刻机已经断货，要延期交付，好在台积电今年已经在5nm工艺上抢先三星了。

光刻机厂商订单暴增，一台售价10亿元，买家都有谁？

光刻机是半导体生产制造流程中的核心设备，由于技术复杂、厂商垄断，导致其价格昂贵。 最近，光刻机全球领导厂商荷兰ASML发布最新报告，今年一季度，ASML共获得了73 台光刻机订单，其中 11 台是极紫外EUV光刻机。 据介绍，这73 台光刻机订单金额高达 30.85 亿

没有2亿美元别上6nm 展锐科普：5G处理器虎贲T7520强在哪？

目前上市的5G处理器还是7nm的，前不久紫光展锐发布了虎贲T7520，全球首发6nm EUV工艺，展锐表示没有2亿美元就别想做6nm芯片。 虎贲T7520则是基于马卡鲁2.0平台，单芯片集成5G基带。

ASML研发下一代EUV光刻机：分辨率提升70% 逼近1nm极限

在EUV光刻机方面，荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机，去年出货26台，创造了新纪录。据报道，ASML公司正在研发新一代EUV光刻机，预计在2022年开始出货。 根据ASML之前的报告

台积电7/6/5nm工艺供不应求 史上最高开支狂买EUV光刻机

作为全球晶圆代工厂的一哥，TSMC台积电今年在先进制程上的优势还会进一步加强，除了7nm供不应求之外，6nm及5nm工艺也会量产，以满足苹果、华为、高通等大客户需求。 为此台积电2020年的资本开支再

面向3nm！ASML将于2021年推下一代EUV光刻机

中芯国际搞定7nm EUV光刻机？官方称报道不实

半导体工艺的进步一直备受关注，尤其是国产半导体技术差距依然很大，每一步都走得很艰难，每一步都令人鼓舞。 日前，韩国媒体报道称，国内最大代工厂中芯国际的董事长周子学博士在韩国访问期间透露，已经与荷兰光刻

ASML回应对中国厂商断供光刻机：全球客户一视同仁

今天闹得沸沸扬扬的ASML光刻机对中国厂商断供一事，ASML公司官方也发表了声明，否认了延迟出货、断供等说法，称媒体报道有误，ASML对全球客户是一视同仁的。 这次外媒报道来源于日本的日经新闻独家新闻

1纳米可期！ASML研发第二代EUV光刻机

半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻，光刻机也因此成为最重要的半导体制造设备。在7nm制程的较量中，台积电之所以能够领先，一个很重要的原因就是EUV技术，在半导体制造的工艺中，这部分的成本就能

华虹无锡基地首批光刻工艺设备进场，9月试生产

2019年6月6日，华虹无锡集成电路研发和制造基地(一期)12 英寸生产线建设项目首批三台光刻机搬入仪式举行。光刻设备的搬入标志着华虹无锡基地项目建设进入新的里程，整个项目也随即达到新高度。

为什么ASML一年最高产量只有30部EUV

晶圆制造产业进入7纳米制程之后，目前全世界仅剩台积电与三星，再加上号称自家10纳米制程优于竞争对手7纳米制程的英特尔等，有继续开发能力之外，其他竞争者因须耗费大量金钱与人力物力的情况下，都已宣布放弃。

半导体先进制程发展扩大EUV市场需求，ASML可望持续受惠

在先进制程纳米节点持续微缩下，光刻机是重要关键设备。12寸晶圆主要光刻机为ArF immersion机台，可覆盖45nm一路往下到7nm节点的使用范围，其雷射光波长最小微缩到193nm；针对7nm节点以下的制程，EUV(Extreme Ultra-Violet)极紫外光使用光源波长为13.5nm，确保先进制程持续发展的可能性。

英特尔在考量什么？继续减持ASML股份，已不足3%

当时，英特尔投资了41亿美元，交易有效期为5年，英特尔将拥有ASML 15%的股份，同时为ASML的研发项目投资33亿美元。

ASML对EUV光刻机前景表示乐观，最先进光刻机很快将入华

尽管UMC(联电)和Globalfoundries(格芯)先后宣布放弃7nm制程及更先进工艺的研发，但ASML依然对EUV光刻机的前景表示乐观。

1.2亿美元!中芯国际下单ASML EUV光刻机

近日消息，中国最大的晶圆代工厂中芯国际已经向荷兰半导体设备制造商ASML订购了一台EUV设备，EUV是当前半导体产业中最先进也最昂贵的芯片制造设备，这台设备价值1.2亿美元，差不多花费了中芯一季度营收的14%。EUV对于

EUV光刻机之战，ASML坐收渔翁之利

《巴伦》报导，芯片设备供应商艾司摩尔ASML的表现，可能要比大多数人想像的要好，瑞士信贷分析师Farhan Ahmad即认为，艾司摩尔的产品是芯片制造商台积电与竞争对手三星电子( 005930-KR )争夺霸主地位的关键要素，估计可以在鹬蚌相争中，渔翁得利。

EUV遭受新挫折 半导体10nm工艺步伐蹉跎

ASML的量产型EUV光刻机在TSMC现场初试时出现失误。在2014年加州SanJose举行的先进光刻技术会议上TSMC演讲中透露此消息,由于EUV光源内的激光机械部分出现异位导致光源破裂。因此EUV光刻机停摆。TSMC的下一代光刻部经理

EUV遭受新挫折 半导体10nm工艺步伐蹉跎

ASML的量产型EUV光刻机在TSMC现场初试时出现失误。在2014年加州SanJose举行的先进光刻技术会议上TSMC演讲中透露此消息，由于EUV光源内的激光机械部分出现异位导致光源破裂。因此EUV光刻机停摆。TSMC的下一代光刻部经

台积电准备启动首台EUV光刻机

台湾积体电路制造股份有限公司（“台积电”）即将在两周后启动首台EUV光刻机。这表示台积电的下一步将是评估用于生产下一代芯片的三种光刻机。台积电纳米成像部副总裁林本坚表示：“台积电是唯一一家

光源问题仍是EUV光刻技术中的难题

GlobalFoundries公司的光刻技术专家Obert Wood在最近召开的高级半导体制造技术会议ASMC2011上表示，尽管业界在改善EUV光刻机用光源技术方面取得了一定成效，但光源问题仍是EUV光 刻技术成熟过程中最“忐忑”的因素。